安徽四象半导体材料科技有限公司崔健获国家专利权
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龙图腾网获悉安徽四象半导体材料科技有限公司申请的专利等离子蚀刻电极获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223501806U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-31发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422891647.X，技术领域涉及：H01J37/32；该实用新型等离子蚀刻电极是由崔健;许赞;朴永哲设计研发完成，并于2024-11-26向国家知识产权局提交的专利申请。
本等离子蚀刻电极在说明书摘要公布了：本实用新型涉及等离子蚀刻电极，蚀刻电极具有垂直于中心轴的圆形截面；沿中心轴方向面向等离子腔室一侧形成蚀刻电极的内表面，沿中心轴方向处于等离子腔室外的一侧形成蚀刻电极的外表面；蚀刻电极表面分布贯通外表面与内表面的气孔，气孔的直径介于0.35‑0.5mm之间。气孔于蚀刻电极上以中心轴为中心向边缘环状拓展，环间间距自中心轴沿径向向边缘处先增加后减小。该蚀刻电极通过其上分布的气孔的尺寸设计保证了单个气孔中气体的稳定输送，因此有利于保证气孔送出气体的稳定性与一致性，从而助于蚀刻均匀性的提升。此外，气孔尺寸的设计也兼顾了蚀刻电极的生产效率。
本实用新型等离子蚀刻电极在权利要求书中公布了：1.一种等离子蚀刻电极，其特征在于，蚀刻电极1具有垂直于中心轴O的圆形截面；沿中心轴O方向面向等离子腔室一侧形成蚀刻电极1的内表面12，沿中心轴O方向处于等离子腔室外的一侧形成蚀刻电极1的外表面11；蚀刻电极1表面分布贯通外表面11与内表面12的气孔13，气孔13的直径介于0.35-0.5mm之间。
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