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龙图腾网获悉无锡华润上华科技有限公司申请的专利一种光刻胶涂层厚度的计算方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114649230B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-04发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011520109.X，技术领域涉及：H01L21/66；该发明授权一种光刻胶涂层厚度的计算方法是由樊航;任涛;秦祥;贺腾飞设计研发完成，并于2020-12-21向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种光刻胶涂层厚度的计算方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种光刻胶涂层厚度的计算方法。根据本发明提供的光刻胶涂层厚度的计算方法，对在不同转速下形成的光刻胶涂层的厚度测量值和厚度理论值进行拟合以形成拟合方程，利用所述拟合方程计算在任意转速下形成的至少一层光刻胶涂层的厚度，提高了光刻胶涂层的计算精度。基于所述各第n层光刻胶涂层的厚度测量值和所述各第n层光刻胶涂层的厚度理论值进行拟合，获得光刻胶涂层的总厚度理论修正值，最终实现了多光刻胶涂层膜厚的精确计算，避免了盲目调节转速再切片确认厚度造成的晶圆浪费，大大节省了成本。还可快速精确制备出所需要的光刻胶涂层厚度，减少产品流通及开发时间。

本发明授权一种光刻胶涂层厚度的计算方法在权利要求书中公布了：1.一种光刻胶涂层厚度的计算方法，其特征在于，包括： 提供至少两个衬底； 完成n次光刻胶涂胶，各所述衬底上均形成由下至上依次叠加的n层光刻胶涂层，不同所述衬底的光刻胶涂胶转速不同，同一所述衬底上的各层光刻胶涂层的光刻胶涂胶转速相同或不同； 测量各所述衬底上的第n层光刻胶涂层的厚度测量值，即为在不同转速下形成的各第n层光刻胶涂层的厚度测量值； 计算各所述衬底上的第n层光刻胶涂层的厚度理论值，即为在不同转速下形成的各第n层光刻胶涂层的厚度理论值； 基于所述各第n层光刻胶涂层的厚度测量值和所述各第n层光刻胶涂层的厚度理论值进行拟合，得到关于第n层光刻胶涂层的厚度理论修正值的拟合方程； 利用所述拟合方程计算得到所述完成n次光刻胶涂胶后形成的所述衬底上的所述n层光刻胶涂层的总厚度理论修正值； 其中，n为大于1的正整数； 所述计算各所述衬底上的第n层光刻胶涂层的厚度理论值，即为在不同转速下形成的各第n层光刻胶涂层的厚度理论值，还包括： 采用以下方程式计算第n层光刻胶涂层的厚度理论值： Dn2×ωn＝dn2×ω′n 其中， ωn表示预先给定的已知的第n层光刻胶涂层的光刻胶涂胶基准转速； ω′n表示形成所述第n层光刻胶涂层的任意的光刻胶涂胶转速； Dn表示在ωn转速下形成的第n层光刻胶涂层的光刻胶涂层的厚度测量值；dn表示待计算的在ω′n转速下形成的第n层光刻胶涂层的厚度理论值； 所述拟合为线性拟合，以确定与所述第n层光刻胶涂层的厚度测量值和所述第n层光刻胶涂层的厚度理论值相关的线性关系拟合系数，得到关于第n层光刻胶涂层的厚度理论修正值的线性关系拟合方程： 其中， a表示第一线性关系拟合系数，且为常数； b表示第二线性关系拟合系数，且为常数； ωn表示预先给定的已知的第n层光刻胶涂层的光刻胶涂胶基准转速； ω′n表示形成所述第n层光刻胶涂层的任意的光刻胶涂胶转速； Dn表示在ωn转速下形成的光刻胶涂层的厚度测量值； yn表示待计算的在ω′n转速下形成的第n层光刻胶涂层的厚度理论修正值； 或者， 所述拟合为二项式拟合，以确定与所述第n层光刻胶涂层的厚度测量值和所述第n层光刻胶涂层的厚度理论值相关的二项式关系拟合系数，得到关于第n层光刻胶涂层的光刻胶涂层的厚度理论修正值的二项式关系拟合方程： 其中， A表示第一二项式关系拟合系数，且为常数； B表示第二二项式关系拟合系数，且为常数； C表示第三二项式关系拟合系数，且为常数； ωn表示预先给定的已知的第n层光刻胶涂层的光刻胶涂胶基准转速； ω′n表示形成所述第n层光刻胶涂层的任意的光刻胶涂胶转速； Dn表示在ωn转速下形成的光刻胶涂层的厚度测量值； yn表示待计算的在ω′n转速下形成的第n层光刻胶涂层的厚度理论修正值。

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