株式会社SK电子山田慎吾获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社SK电子申请的专利多色调光掩模的制造方法以及多色调光掩模获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115016224B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-04发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210192510.8，技术领域涉及：G03F1/32；该发明授权多色调光掩模的制造方法以及多色调光掩模是由山田慎吾;上南亮太设计研发完成，并于2022-02-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本多色调光掩模的制造方法以及多色调光掩模在说明书摘要公布了：本发明提供能够无需对准的多色调光掩模的制造方法及多色调光掩模。多色调光掩模的制造方法包括：准备中间体的工序，中间体由下列层叠膜结构构成，即中间体具有：在透明基板2上层叠的半透膜3；具有与半透膜3不同的蚀刻特性、以在半透膜3上重合的方式进行层叠的中间膜4；具有与半透膜3相同的蚀刻特性、以使中间膜4的周边区域的至少一部分露出的方式在中间膜4上层叠的遮光膜5；且中间膜4的露出的部分的至少一部分具有越接近透明基板2其边缘4a越向外侧扩展的形状；将中间膜4的露出的部分分多次进行蚀刻并最终去除的工序；在除了最后一次或包括最后一次的各次蚀刻后对半透膜3的露出的部分进行等离子体处理，改变该部分的透射率的工序。
本发明授权多色调光掩模的制造方法以及多色调光掩模在权利要求书中公布了：1.一种多色调光掩模的制造方法，该多色调光掩模包括透射部、半透射部及遮光部，且在半透射部包括由透射率朝向半透射部与透射部的边界阶梯式地变高的多个区域构成的渐变部；其特征在于， 该多色调光掩模的制造方法包括： 中间体准备工序，准备由下列层叠膜结构构成的中间体，即中间体具有：半透膜，具有规定的图案形状，且层叠在透明基板上；中间膜，具有与半透膜不同的蚀刻特性，且以重叠在半透膜上的方式进行层叠；遮光膜，具有规定的图案形状和与半透膜相同的蚀刻特性，以使中间膜的周边区域的至少一部分露出的方式层叠在中间膜上；中间膜的露出的部分的至少一部分具有越接近透明基板其边缘越向外侧扩展的形状； 中间膜分次蚀刻工序，将中间膜的露出的部分分多次进行蚀刻并最终去除； 等离子体处理工序，在除了最后一次或包括最后一次的各次蚀刻后，对半透膜的露出的部分进行等离子体处理，改变该部分的透射率。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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