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龙图腾网获悉上海华力集成电路制造有限公司申请的专利加快芯片版图OPC修正速度的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116520633B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-04发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310473250.6，技术领域涉及：G03F1/36；该发明授权加快芯片版图OPC修正速度的方法是由夏明设计研发完成，并于2023-04-27向国家知识产权局提交的专利申请。

本加快芯片版图OPC修正速度的方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种加快芯片版图OPC修正速度的方法，提供设计版图，设计版图由多种类型的图形组成，根据设计版图的轮廓设置由多个采样点组成的线段；将不同类型的图形的特征进行分类形成多个集合，每个集合均设置有对应的预补值；根据不同类型的图形对应的预补值迭代采样点，形成修正后版图，使得修正后版图的显影后图形与设计版图之间误差值小于或等于目标值；检验修正后版图的准确性，若无错误则以修正后版图制作光罩。本发明通过对设计芯片版图的特定图形，根据模型数据进行预先补值，加快光学邻近修正收敛速度，减少采样点计算迭代次数，降低运行时间，加快掩膜版的修正速度。

本发明授权加快芯片版图OPC修正速度的方法在权利要求书中公布了：1.一种加快芯片版图OPC修正速度的方法，其特征在于，至少包括： 步骤一、提供设计版图，所述设计版图由多种类型的图形组成，根据所述设计版图的轮廓设置由多个采样点组成的线段； 步骤二、将不同类型的所述图形的特征进行分类形成多个集合，每个集合均设置有对应的预补值； 步骤三、根据不同类型的所述图形对应的所述预补值迭代所述采样点，形成修正后版图，使得所述修正后版图的显影后图形与所述设计版图之间误差值小于或等于目标值，根据不同类型的所述图形对应的所述预补值迭代所述采样点的方法包括：对所述采样点依次进行第一至N次迭代，自第X-1至X次的迭代中，所述采样点的修正值Y=[Z1-Z2+Z3]*K；其中，Z1-Z2为第X-1次的所述修正后版图的显影后图形与所述设计版图之间误差值，Z3为所述预补值，K为修正系数，N为大于等于2的整数，X为大于等于2的整数且X小于等于N；或者，对所述采样点依次进行第一至N次迭代，自第X-1至X次的迭代中，所述采样点的修正值Y=[Z1-Z2]*K；其中，Z1-Z2为第X-1次的所述修正后版图的显影后图形与所述设计版图之间误差值，K为修正系数，N为大于等于2的整数，X为大于等于3的整数且X小于等于N； 步骤四、检验所述修正后版图的准确性，若无错误则以所述修正后版图制作光罩。

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