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龙图腾网获悉中山大学申请的专利一种可见至中红外超宽带吸收体及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116657097B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-04发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310650984.7，技术领域涉及：C23C14/20；该发明授权一种可见至中红外超宽带吸收体及其制备方法是由江绍基;杨帆;王虹;李锐豪;董建文;谭世龙设计研发完成，并于2023-06-02向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种可见至中红外超宽带吸收体及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明涉及光学技术领域，更具体地，涉及一种可见至中红外超宽带吸收体及其制备方法，方法包括如下步骤：在聚酰亚胺衬底上将聚苯乙烯微球自组装形成单层六角密排结构衬底，然后通过离子刻蚀形成纳米锥阵列衬底；向镀膜室中放入铜基材并通入氩气，溅射制备得到反射层；在镀膜室中放入锆基材并通入氩、氧，溅射制备得到第一金属吸收膜层；继续通入氩、氧，溅射制备得到第二金属吸收膜层；再通入氩、氧，溅射制备得到第三金属吸收膜层；向镀膜室中放入氧化铝基材，后通入氩气，溅射制备得到介质增透层，形成吸收体。本发明在可见光和近红外区域均能够具有极高的吸收率，且具有良好的角度容差以及偏振不敏感性，还具有抗弯性和耐热性。

本发明授权一种可见至中红外超宽带吸收体及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种可见至中红外超宽带吸收体的制备方法，其特征在于，包括如下步骤： S1.将聚酰亚胺衬底在乙醇溶液中进行超声清洗； S2.在完成清洗的聚酰亚胺衬底上将聚苯乙烯微球自组装形成单层六角密排结构衬底，然后通过离子刻蚀在所述单层六角密排结构衬底上形成纳米锥阵列衬底1；其中，包括如下步骤： S21.取等体积的聚苯乙烯微球水溶液与等体积的乙醇溶液进行混合，然后滴在十二烷基硫酸钠溶液的去离子水表面，形成单层六角密排结构； S22.将所述单层六角密排结构转移至完成清洗的聚酰亚胺衬底上，待干燥后得到单层六角密排结构衬底； S23.将所述单层六角密排结构衬底放入离子刻蚀机中，随后向离子刻蚀机通入氧气并进行刻蚀，得到所述纳米锥阵列衬底1； S3.向镀膜室中放入铜基材，随后向所述镀膜室中通入氩气，溅射铜靶材进行制备得到反射层2； S4.在所述镀膜室中放入锆基材，随后向所述镀膜室中同时通入氩气和氧气，溅射锆靶材进行制备得到第一金属吸收膜层3； S5.继续向所述镀膜室同时通入氩气和氧气，溅射锆靶材进行制备得到第二金属吸收膜层4；所述步骤S5中的溅射功率小于步骤S4中的溅射功率；所述步骤S5中的溅射时间大于步骤S4中的溅射时间； S6.再向所述镀膜室同时通入氩气和氧气，溅射锆靶材进行制备得到第三金属吸收膜层5；所述步骤S6中的溅射功率小于步骤S5中的溅射功率；所述步骤S6中的溅射时间小于步骤S4中的溅射时间； S7.向所述镀膜室中放入氧化铝基材，随后向所述镀膜室通入氩气，溅射氧化铝靶材进行制备得到介质增透层6，形成可见至中红外超宽带吸收体。

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