万华化学集团电子材料有限公司张焱坤获国家专利权
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龙图腾网获悉万华化学集团电子材料有限公司申请的专利一种化学机械抛光垫、制备方法及其应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116985031B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-04发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310303549.7，技术领域涉及：B24B37/20；该发明授权一种化学机械抛光垫、制备方法及其应用是由张焱坤;王凯设计研发完成，并于2023-03-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种化学机械抛光垫、制备方法及其应用在说明书摘要公布了：本发明公开了一种化学机械抛光垫、制备方法及其应用，所述的抛光垫至少包括抛光顶层、缓冲层及贴合层，所述的抛光垫内部性能包括硬度和压缩偏移量会随着抛光浆料的注入而发生变化，当酸性值达到一定程度后，所述抛光顶层的硬度及压缩偏移量表现出差异性分布，具体地，在酸性抛光液中，随着抛光液pH值的减小，所述抛光顶层硬度相差0.1～10D，压缩偏移量降低0.01～0.5mil。本发明的化学机械抛光垫可以改善在强酸性抛光液中半导体表面上的划痕及表面缺陷的特性，进一步提高抛光速率。
本发明授权一种化学机械抛光垫、制备方法及其应用在权利要求书中公布了：1.一种化学机械抛光垫，至少包括一抛光顶层，其特征在于，所述抛光顶层由至少包括含有未反应的异氰酸酯基团的预聚体、含有活泼氢的固化剂、普通空心微球及耐酸性膨胀微球经固化反应制备得到；且随着酸性抛光浆料的注入，以及抛光液pH值的减小，所述抛光顶层硬度增大0.1～10D，压缩偏移量降低0.01～0.5mil。
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