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龙图腾网获悉武汉大学申请的专利一种高硬度纳米复合结构高熵合金涂层及其制备和硬化方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117004908B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-04发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310648752.8，技术领域涉及：C23C14/14；该发明授权一种高硬度纳米复合结构高熵合金涂层及其制备和硬化方法是由张翔宇;雷燕;杨兵;李成林;张俊;佩列诺维奇·瓦西里·奥列戈维奇;曾晓梅设计研发完成，并于2023-05-31向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种高硬度纳米复合结构高熵合金涂层及其制备和硬化方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种高硬度纳米复合结构高熵合金涂层及其制备和硬化方法，属于溅射进行镀覆技术领域。该方法包括如下步骤：1采用离子刻蚀，以等离子体轰击衬底，得到活化刻蚀衬底；随后采用磁控溅射，以高熵合金作为靶材，在所述活化刻蚀衬底表面溅射形成硬质涂层，得到覆层衬底；2所述覆层衬底经热处理使表面涂层硬化，得到高硬纳米复合结构高熵合金涂层。本发明工艺简单、生产效率高，所得高硬度纳米复合结构高熵合金涂层，其硬度高，能够有效降低摩擦损伤，延长衬底材料的使用寿命。

本发明授权一种高硬度纳米复合结构高熵合金涂层及其制备和硬化方法在权利要求书中公布了：1.一种高硬度纳米复合结构高熵合金涂层的制备及其硬化方法，其特征在于，包括如下步骤： 1清除衬底表面的杂质，采用离子刻蚀，先将衬底置于真空及一定温度下，随后通入氩气并设置衬底的偏压和占空比；氩气在弧电源电流作用下电离形成Ar+离子束，以Ar+离子束轰击衬底，得到活化刻蚀衬底；再次通入氩气并设置衬底的偏压和占空比，以高熵合金作为溅射靶材，采用磁控溅射，通过溅射使溅射靶材中的物质沉积在活化刻蚀衬底表面，得到覆层衬底； 所述高熵合金为AlCrNbSiTi高熵合金，AlCrNbSiTi高熵合金中，Al、Cr、Nb、Si、Ti的原子比为34：22：11：11：22；所述温度为100~300℃；在所述离子刻蚀中，通入氩气后的气压为0.5~1.0Pa；在所述磁控溅射中，通入氩气后的气压为0.5~1.5Pa；在所述离子刻蚀中，所述衬底的偏压为-200~-50V，衬底的占空比为30%~70%；在所述磁控溅射中，所述衬底的偏压为-300~0V，衬底的占空比为30%~70%；所述弧电源电流为80~120A；所述磁控溅射的溅射功率为500~900W； 2将所述覆层衬底置于真空环境下，随后通入惰性气体作为保护气体，升温至一定温度，并在该温度下进行退火处理；退火处理完成后，自然冷却至室温，完成涂层的硬化，得到高硬纳米复合结构高熵合金涂层； 所述退火处理的温度为600~1000℃，时间为2~5h；通入惰性气体后的气压为0.5~1.0Pa；所述升温的速率为3~5℃min。

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