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龙图腾网获悉万华化学集团电子材料有限公司;万华化学集团股份有限公司申请的专利一种低锆含量的钨化学机械抛光液、制备方法及其应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117070953B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-04发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310903964.6，技术领域涉及：C23F3/06；该发明授权一种低锆含量的钨化学机械抛光液、制备方法及其应用是由张宏源;崔晓坤;卞鹏程;王庆伟;王瑞芹;徐贺;李国庆;王永东;朱林君;卫旻嵩设计研发完成，并于2023-07-24向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种低锆含量的钨化学机械抛光液、制备方法及其应用在说明书摘要公布了：本发明公开了一种低锆含量的钨化学机械抛光液、制备方法及其应用，所述抛光液以商用电子级气相二氧化硅经研磨、除杂得到的纳米级气相二氧化硅为磨料，其中，所述钨化学机械抛光液中Zr含量为8ppb‑8ppm。本发明的纳米级气相二氧化硅通过球磨机研磨获得纳米级气相二氧化硅分散液，再利用溶剂萃取法去除分散液中的Zr杂质。利用本发明所得低Zr含量的纳米级气相二氧化硅分散液配制的钨化学机械抛光液具有抛光表面质量高、杂质残留量低等特点。

本发明授权一种低锆含量的钨化学机械抛光液、制备方法及其应用在权利要求书中公布了：1.一种低锆含量的钨化学机械抛光液的制备方法，以商用电子级气相二氧化硅经研磨、除杂得到的纳米级气相二氧化硅为磨料，其特征在于，所述钨化学机械抛光液中Zr含量为8ppb-8ppm，以钨化学机械抛光液总质量计，所述钨化学机械抛光液包括1-20％的纳米级气相二氧化硅磨料、0.5-5％的氧化剂、0.001-0.3％的催化剂、0.001-0.3％的稳定剂，余量为水；所述的钨化学机械抛光液的pH为1.0-3.0； 所述纳米级气相二氧化硅磨料由包括如下的步骤制备得到： 1选用商用电子级气相二氧化硅为原料，经研磨得到纳米级气相二氧化硅分散液； 2以pH调节剂调节纳米级气相二氧化硅分散液的初始pH值至2-7； 3将步骤2的纳米级气相二氧化硅分散液与稀释的萃取剂混合，置于恒温振荡器中振荡； 4振荡结束后静置分相，出液口放出底相即为除杂后的纳米级气相二氧化硅分散液； 所述萃取剂为中性萃取剂或酸性萃取剂； 所述中性萃取剂选自三辛基氧化膦、丁基磷酸二丁酯、磷酸三丁酯、甲基异丁基酮、二辛基亚砜、三烷基氧膦、三丁基氧化膦、二丁基膦酸丁酯、异丙基膦酸二环己酯、异丙基膦酸二正辛酯、异丙基膦酸二2-乙基己基酯、异丙基膦酸二1-甲基庚基酯、异丙基膦酸二正丁酯、异丙基膦酸二异丁酯、异丙基膦酸二仲丁酯、异丙基膦酸二叔丁酯、甲基膦酸二1-甲基庚基酯中的至少任一种；所述酸性萃取剂选自2-乙基己基磷酸单-2-乙基己基酯、二2-乙基己基磷酸酯、二2,4,4-三甲基戊基膦酸、二壬基萘磺酸、二1-甲基庚基磷酸、二2-乙基己基膦酸、环烷酸、异构酸中的至少任一种。

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