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龙图腾网获悉福建钰融科技有限公司申请的专利一种面板以及半导体的铜蚀刻液生产设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117815970B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-04发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311740175.1，技术领域涉及：B01F27/90；该发明授权一种面板以及半导体的铜蚀刻液生产设备是由林秋玉;崔文涛;邵振设计研发完成，并于2023-12-15向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种面板以及半导体的铜蚀刻液生产设备在说明书摘要公布了：本发明涉及蚀刻液生产技术领域，提供一种面板以及半导体的铜蚀刻液生产设备，包括：第一原料罐，用于储存N‑甲基甲酰胺；第二原料罐，用于储存双氧水；第三原料罐，用于储存磷酸三钠；第四原料罐，用于储存乙二胺四乙酸；第五原料罐，用于储存丙酸；第六原料罐，用于储存添加剂；第七原料罐，用于储存表面活性剂；第八原料罐，用于储存纯水；还包括输料主管、输料支管、三通管、竖直管、液泵、第一电控阀门、第二电控阀门和搅拌混合釜。本发明的优点在于：纯水从输料主管分散到输料支管，铜蚀刻液原料分别进入各自的输料支管，与纯水混合成溶液，然后在对应的液泵的驱动下，输送到搅拌混合釜，高效率地生产面板以及半导体的铜蚀刻液。

本发明授权一种面板以及半导体的铜蚀刻液生产设备在权利要求书中公布了：1.一种面板以及半导体的铜蚀刻液生产设备，其特征在于，包括： 第一原料罐，用于储存N-甲基甲酰胺； 第二原料罐，用于储存双氧水； 第三原料罐，用于储存磷酸三钠； 第四原料罐，用于储存乙二胺四乙酸； 第五原料罐，用于储存丙酸； 第六原料罐，用于储存添加剂； 第七原料罐，用于储存表面活性剂； 第八原料罐，用于储存纯水； 还包括输料主管、输料支管、三通管、竖直管、液泵、第一电控阀门、第二电控阀门和搅拌混合釜； 所述第八原料罐的底部出口与所述输料主管的入口连接，所述输料主管的出口分别与所述输料支管的入口连接，所述输料支管的出口与所述三通管的第一管口连接，所述三通管的第二管口与所述液泵的入口连接，所述液泵的出口与所述竖直管的下端入口连接，所述竖直管的上端出口与所述搅拌混合釜的顶部入口连接，所述输料支管、三通管、液泵、竖直管都有七个，所述第一原料罐至第七原料罐的底部出口分别与七个所述三通管的第三管口连接； 所述第一原料罐至第八原料罐的底部出口都安装有所述第一电控阀门，七个所述输料支管的入口都安装有所述第二电控阀门。

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