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龙图腾网获悉杭州龙圣外延科技有限公司申请的专利反应气体预热的MOCVD设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117926210B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-04发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410269457.6，技术领域涉及：C23C16/18；该发明授权反应气体预热的MOCVD设备是由徐国强;张丽娜;闻洁设计研发完成，并于2024-03-10向国家知识产权局提交的专利申请。

本反应气体预热的MOCVD设备在说明书摘要公布了：本发明提供了一种反应气体预热的MOCVD设备，包括：反应腔壳，用于提供供反应气体发生化学反应的环境；进气口和排气口，分别用于向反应腔壳内供应反应气体和从反应腔壳内排出气体；以及内筒41，设置在反应腔壳内，并且内筒41与反应腔壳之间形成反应气体通道51，其中，所述MOCVD设备被配置为使得内筒41和反应腔壳之间能够相对旋转；并且其中，所述MOCVD设备被配置为使得反应气体在通过进气口进入反应腔壳前被预热。本发明的反应气体预热的MOCVD设备能够减小MOCVD设备的巨大能耗，降低设备运行成本，具有改善的温度均匀性、气体流动均匀性和或气体浓度均匀性，能够提高半导体器件的沉积质量，能够增大产能。

本发明授权反应气体预热的MOCVD设备在权利要求书中公布了：1.一种反应气体预热的MOCVD设备，其特征在于，所述MOCVD设备包括： 反应腔壳，用于提供供反应气体发生化学反应的环境； 进气口和排气口，分别用于向反应腔壳内供应反应气体和从反应腔壳内排出气体；以及 内筒41，设置在反应腔壳内，并且内筒41与反应腔壳之间形成反应气体通道51， 其中，所述MOCVD设备被配置为使得内筒41和反应腔壳之间能够相对旋转；并且 所述反应腔壳上设置有进气元件52、排气元件53和分隔元件54；所述分隔元件54位于反应气体通道51内、进气元件52和排气元件53之间； 所述进气元件52和排气元件53在反应腔壳的周向上相邻的设置； 分隔元件54与内筒41之间具有间隙；分隔元件54上两侧设置气孔，气孔中喷入载气，形成气体阻隔层； 所述进气元件52的伸入反应气体通道51中的部分包括径向段和相对于径向段弯折的折弯段；所述折弯段上设置有第一出气口和第二出气口，从第一出气口处供应的反应气体的流动方向大致相切于以内筒41的纵向轴线上的点为圆心的圆，从第二出气口处供应的反应气体的流动方向大致指向内筒41的纵向轴线，以形成气帘； 其中，所述MOCVD设备被配置为使得反应气体在通过进气口进入反应腔壳前被预热。

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