科磊股份有限公司D·W·普利斯获国家专利权
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龙图腾网获悉科磊股份有限公司申请的专利对具有共同定位的建模瑕疵的缺陷加权的系统及方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117981066B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-04发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202380013705.4，技术领域涉及：H01L21/66；该发明授权对具有共同定位的建模瑕疵的缺陷加权的系统及方法是由D·W·普利斯;R·J·拉瑟;C·V·伦诺克斯;O·唐泽拉设计研发完成，并于2023-02-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本对具有共同定位的建模瑕疵的缺陷加权的系统及方法在说明书摘要公布了：公开用于产生缺陷关键程度的系统及方法。此类系统及方法可包含识别包含缺陷及缺陷位置的缺陷结果。此类系统及方法可包含接收经配置以在多个测试位置处测试潜在瑕疵的瑕疵测试配方。此类系统及方法可包含基于所述瑕疵测试配方经配置以测试潜在瑕疵的可计数次数来识别多个N检测参数。此类系统及方法可包含基于所述多个N检测参数来确定多个加权参数。此类系统及方法可包含基于所述多个测试位置与所述缺陷位置之间的接近度及所述多个加权来产生所述缺陷的所述缺陷关键程度。
本发明授权对具有共同定位的建模瑕疵的缺陷加权的系统及方法在权利要求书中公布了：1.一种用于产生缺陷关键程度的筛选系统，其包括： 控制器，其经通信耦合到一或多个样本分析子系统，其中所述一或多个样本分析子系统包括至少一个测试子系统及至少一个在线特性化子系统，所述控制器包含经配置以执行程序指令的一或多个处理器，所述程序指令引起所述一或多个处理器： 识别包含缺陷及所述缺陷的缺陷位置的缺陷结果； 接收瑕疵测试配方，其中每一瑕疵测试配方经配置以在多个测试位置处测试多个潜在瑕疵中的一或多者；及 识别多个N检测参数，其中所述多个N检测参数的每一N检测参数是针对瑕疵或位置执行的测试的可计数数目，其与所述多个潜在瑕疵的潜在瑕疵的测试位置相关联且基于所述瑕疵测试配方经配置以测试所述潜在瑕疵的可计数次数； 基于所述多个N检测参数来确定多个加权参数，其中所述多个加权参数与所述多个测试位置相关联； 至少基于以下者来产生所述缺陷的所述缺陷关键程度： 所述多个潜在瑕疵的所述多个测试位置与所述缺陷的所述缺陷位置之间的接近度；及 所述多个加权参数，其与所述多个测试位置相关联。
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