上海华力集成电路制造有限公司柯顺魁获国家专利权
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龙图腾网获悉上海华力集成电路制造有限公司申请的专利建模方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119414653B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-04发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411686984.3，技术领域涉及：G03F1/36；该发明授权建模方法是由柯顺魁设计研发完成，并于2024-11-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本建模方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种建模方法，所述方法包括：获取数据源，所述数据源包括光罩相关初始参数、GDS数据及Gauge数据；对所述光罩相关初始参数进行预设置，并设置机台相关参数；对所述光罩相关初始参数进行优化计算以得到光罩优化参数，并进行点光强及Gauge关键尺寸的生成；采用模拟退火算法对所述光罩优化参数、所述点光强及所述Gauge关键尺寸进行优化；输出复杂图形轮廓，并将得到的所述复杂图形轮廓与通过线宽扫描仪采集的图片进行图形叠对处理，以评估二者之间的图形轮廓是否吻合。通过本发明解决了现有的产品的tapeout周期和光罩的交付周期较长的问题。
本发明授权建模方法在权利要求书中公布了：1.一种建模方法，其特征在于，所述方法包括： 获取数据源，所述数据源包括光罩相关初始参数、GDS数据及Gauge数据；所述Gauge数据是通过读入Gauge文件得到的数据，所述Gauge文件用于计算版图中所记录的版图坐标位置的光强； 对所述光罩相关初始参数进行预设置，并设置机台相关参数； 对所述光罩相关初始参数进行优化计算以得到光罩优化参数，并进行点光强及Gauge关键尺寸的生成；进行Gauge关键尺寸的生成的方法包括：通过优化方法由每一个Gauge上的光强模拟得到的关键尺寸； 采用模拟退火算法对所述光罩优化参数、所述点光强及所述Gauge关键尺寸进行优化； 输出复杂图形轮廓，并将得到的所述复杂图形轮廓与通过线宽扫描仪采集的图片进行图形叠对处理，以评估二者之间的图形轮廓是否吻合。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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