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龙图腾网获悉西安空间无线电技术研究所申请的专利一种宽能谱带电粒子束特定能量束流横向发射度测量方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119758426B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-04发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411798499.5，技术领域涉及：G01T1/29；该发明授权一种宽能谱带电粒子束特定能量束流横向发射度测量方法是由朱斌;方进勇;张曜;周润东;秦子浩;王建军;龚利鸣设计研发完成，并于2024-12-09向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种宽能谱带电粒子束特定能量束流横向发射度测量方法在说明书摘要公布了：本申请涉及一种宽能谱带电粒子束特定能量束流横向发射度测量方法，以束流横向发射度测量中的四极子扫描法为基础，通过增加一组正交布置的二极子作为辅助能量筛选装置，实现对宽能谱带电粒子束中特定能量范围内窄带束流的横向发射度测量，既能够利用一套系统满足宽能谱带电粒子束的测量需求，还能够利用二极子的筛选作用，降低多能量束流在使用四极子扫描法测量发射度时的额外测量误差，进一步提高发射度测量精度，为宽能谱带电粒子制定能量范围内束流横向发射度的测量提供一种可行的解决方案。

本发明授权一种宽能谱带电粒子束特定能量束流横向发射度测量方法在权利要求书中公布了：1.一种宽能谱带电粒子束特定能量束流横向发射度测量装置，其特征在于，包括：带电粒子束源、可调四极子、能量狭缝、二极子组件、荧光屏组件和束流垃圾桶；所述二极子组件包括水平二极子和垂直二极子，所述荧光屏组件包括第一荧光屏和第二荧光屏；所述束流垃圾桶用于收集未参与偏转的带电粒子束流； 所述能量狭缝的方向根据选择的待测束流横向发射度测量方向确定；若所述横向发射度测量方向为水平方向，则所述能量狭缝的方向为水平方向；若所述横向发射度测量方向为垂直方向，则所述能量狭缝的方向为垂直方向； 所述带电粒子束源持续发射待测带电粒子束流，所述待测带电粒子束流穿过所述可调四极子后，若所述横向发射度测量方向为水平方向，所述待测带电粒子束流经过所述能量狭缝和所述垂直二极子，在所述第一荧光屏中央成像，若所述横向发射度测量方向为垂直方向，所述待测带电粒子束流经过所述能量狭缝和所述水平二极子，在所述第二荧光屏中央成像； 所述可调四极子由双极性可调直流电源控制，用于产生不同梯度的扫描磁场，实现对带电粒子束流水平和垂直方向性能的调控；所述二极子组件用于能谱展宽及能量筛选，所述能量狭缝用于消除能谱展宽及能量筛选前束流横向尺寸的影响；通过改变所述可调四极子的激励电流来改变四极子的磁场梯度，使得所述荧光屏组件上的束斑尺寸发生变化，所述束斑尺寸和对应的可调四极子的激励电流，用于计算带电粒子束流横向发射度。

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