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龙图腾网获悉国科光芯金杏(北京)实验室科技有限公司申请的专利一种电光调制器件的制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119758620B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-04发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411771868.1，技术领域涉及：G02F1/035；该发明授权一种电光调制器件的制备方法是由刘敬伟;李超设计研发完成，并于2024-12-04向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种电光调制器件的制备方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种电光调制器件的制备方法。制备方法包括：减薄电光材料晶圆的第一衬底背向第一压应力层的一侧，使电光材料晶圆产生翘曲，向初始电光材料层一侧凸起；对初始电光材料层的翘曲凸起部分进行研磨，形成多个两侧具有坡面结构的条形凹槽；条形凹槽在深度方向上至少贯穿初始电光材料层；切割电光材料晶圆并去除第一衬底和压应力层，剩余的初始电光材料层作为电光材料层；将电光材料层键合至键合介质层背向波导芯的一侧表面；其中，电光材料层与波导芯相对应；坡面结构位于波导芯长度方向的两侧。该制备方法可以避免或减少对电光材料层进行刻蚀工艺，提高工艺效率和电光材料的利用率，简化工艺流程，有效降低电光调制器件的光场过渡损耗。

本发明授权一种电光调制器件的制备方法在权利要求书中公布了：1.一种电光调制器件的制备方法，其特征在于，包括： 提供电光材料晶圆，所述电光材料晶圆依次包括层叠的第一衬底、第一压应力层和初始电光材料层； 减薄所述第一衬底背向所述第一压应力层的一侧，同时使所述电光材料晶圆产生翘曲，向所述初始电光材料层一侧凸起； 固定所述第一衬底，对所述初始电光材料层的翘曲凸起部分进行研磨，直至暴露部分所述第一压应力层或所述第一衬底，形成多个两侧具有坡面结构的条形凹槽；所述条形凹槽在深度方向上至少贯穿所述初始电光材料层并深入所述第一压应力层； 对研磨后的所述电光材料晶圆进行切割，形成电光材料晶圆小片；所述电光材料晶圆小片包括部分所述第一衬底、部分所述第一压应力层和两侧具有坡面结构的部分所述初始电光材料层； 去除所述电光材料晶圆小片中的所述第一衬底和所述第一压应力层，剩余的所述初始电光材料层作为电光材料层； 提供第二衬底，在所述第二衬底一侧表面依次形成下包层、波导芯和键合介质层，所述键合介质层包覆所述波导芯背向所述第二衬底的一侧表面和所述波导芯的侧面； 将所述电光材料层键合至所述键合介质层背向所述波导芯的一侧表面；其中，所述电光材料层与所述波导芯相对应；所述坡面结构位于所述波导芯长度方向的两侧； 在所述电光材料层背向所述键合介质层的一侧表面形成电极，所述电极位于所述波导芯两侧对应的位置。

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