中国科学院上海光学精密机械研究所郭猛获国家专利权
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龙图腾网获悉中国科学院上海光学精密机械研究所申请的专利一种宽角度入射颜色不敏感中红外窗口薄膜获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119781096B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-04发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411840732.1，技术领域涉及：G02B1/115；该发明授权一种宽角度入射颜色不敏感中红外窗口薄膜是由郭猛;蒋健文;蒋靖;邵宇川;易葵设计研发完成，并于2024-12-13向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种宽角度入射颜色不敏感中红外窗口薄膜在说明书摘要公布了：本发明提出一种宽角度入射颜色不敏感中红外窗口薄膜，其结构由下而上分别为基底材料G，过渡层M1，过渡层M2，介质膜系C，空气层A。本发明的目的是实现在0～60°宽角度入射下，红外窗口在中波红外光谱范围内高透过率，同时具有对可见光的颜色不敏感的特性。所述过渡层是由两种氧化物组成，用于改善膜层牢固性能。所述介质膜系结构是由高低折射率材料交替沉积组成，介质膜系能够保证在宽角度入射下，红外窗口在中波波段范围内的具有高透过性，同时具有对可见光颜色显示不敏感性能。本发明的宽角度入射颜色不敏感中红外窗口薄膜可广泛应用于光学检测、成像等光学系统领域。
本发明授权一种宽角度入射颜色不敏感中红外窗口薄膜在权利要求书中公布了：1.一种宽角度入射颜色不敏感中红外窗口薄膜，其特征在于，其结构为GM1M2CA，其中G代表基底材料，M1代表过渡层1，M2代表过渡层2，C代表介质膜系，A代表入射介质空气层，所述介质膜系由低折射率的介质材料和高折射率的介质材料交替沉积而成； 所述的薄膜初始结构表达式为GM1M2xHyL^nA，其中G为基底材料，M1代表过渡层1，M2代表过渡层2，H为光学厚度为λ4的高折射率材料，L为光学厚度为λ4的低折射率材料，n为介质膜系周期数，x，y分别为高折射率和低折射率膜层厚度系数，A为空气层，λ为参考波长； 所述的介质膜层周期数n选择范围为1～10，高折射率和低折射率膜层厚度系数x，y在0.1～5之间，经优化后的膜系低折射率膜层与高折射率膜层总厚度系数比值∑yL∑xH在0.1～5之间； 所述过渡层1和过渡层2的材料分别为Al2O3和Y2O3，过渡层1和过渡层2厚度均小于50nm； 该薄膜在0～60°宽角度入射下，对可见光颜色不敏感。
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