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龙图腾网获悉麦德拉斯制药有限公司申请的专利用于放射性同位素安全制备和注入的系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119868729B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-04发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510087417.4，技术领域涉及：A61M5/36；该发明授权用于放射性同位素安全制备和注入的系统是由彼得·拉森;马丁·斯滕费尔特;卢恩·维克·克里斯滕森设计研发完成，并于2016-06-20向国家知识产权局提交的专利申请。

本用于放射性同位素安全制备和注入的系统在说明书摘要公布了：一种用于在正电子发射断层摄影术PET中使用的H215O的放射性同位素安全制备和注入的系统。本发明还涉及一种用于控制在PET中使用的H215O的流量的安全阀、所述安全阀的用途、以及一种用于制备并注入H215O的方法。

本发明授权用于放射性同位素安全制备和注入的系统在权利要求书中公布了：1.一种用于控制在正电子发射断层摄影术中使用的H215O的流量的安全阀，该阀包括： 阀元件，该阀元件具有延伸穿过该阀元件的流动通道， 阀壳体，该阀壳体在第一端与第二端之间延伸并且具有至少三个阀开口，每个阀开口允许流体流入或流出所述阀，以及 至少两个溢流凹陷，每个溢流凹陷延伸至该阀壳体的第一端和第二端，每个溢流凹陷包括在该阀壳体的第一端和第二端两者处的出口开口， 其中该阀元件和阀壳体可连接以形成组装阀，该阀元件和该阀壳体在接触区域中彼此相接触， 其中该组装阀能够被安排成至少两个不同的打开构型，所述打开构型中的一个打开构型限定穿过该流动通道和一组阀开口的第一流动路径，并且所述打开构型中的另一个打开构型限定穿过该流动通道以及另一组不同的阀开口的第二流动路径，并且 其中在所述至少两个打开构型中的每一个打开构型中： -每个溢流凹陷被安排在该阀元件与该阀壳体之间， -这些阀开口中的至少两个阀开口通过该流动通道相连接， -这些阀开口中的至少一个阀开口没有连接至该流动通道， -所述接触区域形成流体挡块，该流体挡块用于防止流体流入没有连接至该流动通道的所述至少一个阀开口中， -这些溢流凹陷不与该流动通道处于流体连通， -每个溢流凹陷被定位成建立所述接触区域的中断，使得这些溢流凹陷建立排出溢流流体的安全释放口，在过压情况下该溢流流体经相应的所述出口开口穿过所述流体挡块，从而使得在所述至少两个打开构型中，所述溢流流体被防止进入没有连接至该流动通道的所述至少一个阀开口中。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人麦德拉斯制药有限公司，其通讯地址为：丹麦赫斯霍尔姆；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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