乾宇微纳技术(深圳)有限公司伍佩铭获国家专利权
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龙图腾网获悉乾宇微纳技术(深圳)有限公司申请的专利一种抗电镀可快速碱退的负性光刻胶获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120652744B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-04发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511165164.4，技术领域涉及：G03F7/038；该发明授权一种抗电镀可快速碱退的负性光刻胶是由伍佩铭;丁德锐;高辉设计研发完成，并于2025-08-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种抗电镀可快速碱退的负性光刻胶在说明书摘要公布了：本发明公开了一种抗电镀可快速碱退的负性光刻胶，属于光刻胶技术领域，所述的抗电镀可快速碱退的负性光刻胶，包括以下质量份的组分：60~80份基体树脂、3~10份光引发剂、7~15份溶剂、5~10份活性稀释剂、3~8份小分子酸单体、0.2~2份流平剂和0.3~2.5份消泡剂；所述基体树脂包括质量比为40~60：40~60的丙烯酸树脂和酚醛环氧丙烯酸酯；所述小分子酸单体含有碳碳双键和羧基。本发明所述的负性光刻胶具有优异的抗电镀效果，能够快速碱退，且分辨率高。
本发明授权一种抗电镀可快速碱退的负性光刻胶在权利要求书中公布了：1.一种抗电镀可快速碱退的负性光刻胶，其特征在于，包括以下质量份的组分：60~80份基体树脂、3~10份光引发剂、7~15份溶剂、5~10份活性稀释剂、3~8份小分子酸单体、0.2~2份流平剂和0.3~2.5份消泡剂； 所述基体树脂包括质量比为40~60：40~60的丙烯酸树脂和酚醛环氧丙烯酸酯；所述丙烯酸树脂的酸值为50~150mgKOHg，在25℃下的粘度为5000~50000mPa·s；所述酚醛环氧丙烯酸酯的酸值为40~120mgKOHg，在25℃下的粘度为10000~100000mPa·s； 所述小分子酸单体含有碳碳双键和羧基。
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