中国科学院上海光学精密机械研究所朱美萍获国家专利权
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龙图腾网获悉中国科学院上海光学精密机械研究所申请的专利基于渐变光学带隙高折射率材料的高损伤阈值激光反射薄膜及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120669341B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-04发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511180403.3，技术领域涉及：G02B5/08；该发明授权基于渐变光学带隙高折射率材料的高损伤阈值激光反射薄膜及其制备方法是由朱美萍;李静平;温家慧;邵建达设计研发完成，并于2025-08-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本基于渐变光学带隙高折射率材料的高损伤阈值激光反射薄膜及其制备方法在说明书摘要公布了：基于渐变光学带隙高折射率材料的高损伤阈值激光反射薄膜及其制备方法，沿基底到膜层表面方向采用光学带隙逐渐增大的纳米叠层材料或混合材料作为高折射率材料层，取代常规激光反射薄膜中光学带隙固定的高折射率材料层。其中，纳米叠层材料的光学带隙通过调整子层材料厚度比例来实现，混合材料的光学带隙通过调整材料混合比例来实现。本发明在高电场强度区域采用具有更大光学带隙的高折射率材料层，在低电场强度区域采用具有更大折射率的高折射率材料层，能够显著提升激光反射薄膜的损伤阈值，且不明显影响其光学性能和力学性能。
本发明授权基于渐变光学带隙高折射率材料的高损伤阈值激光反射薄膜及其制备方法在权利要求书中公布了：1.基于渐变光学带隙高折射率材料的高损伤阈值激光反射薄膜，其特征在于，膜系结构为substrate|kLH1LH2L……HNLYLmjL|air；其中substrate为基底；air为空气；L为低折射率材料层；Hi为渐变光学带隙高折射率材料层，其光学带隙沿基底向膜层表面方向逐渐增大，i=1，2，3……N；Y为固定光学带隙高折射率材料层；m为周期数，且m≥0；k和j为系数，且0≤k≤8，j的取值使得空气和膜层界面电场为0； 所述渐变光学带隙高折射率材料层为纳米叠层材料或混合材料，由材料HCH和材料HCL组成；材料HCH的折射率为；材料HCL的折射率为； 若渐变光学带隙高折射率材料层Hi层采用纳米叠层材料，其结构为B，其中，子层的厚度和子层的厚度满足如下公式： ； ； 式中，N为渐变光学带隙高折射率材料层的总层数，B为子层周期数，且B0，λ为参考波长。
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