苏州锦艺新材料科技股份有限公司赵方获国家专利权
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龙图腾网获悉苏州锦艺新材料科技股份有限公司申请的专利有机硅微粉及其制备方法和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120699284B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-04发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511196120.8，技术领域涉及：C08J3/12；该发明授权有机硅微粉及其制备方法和应用是由赵方;胡林政;李杰;唐政;许进设计研发完成，并于2025-08-26向国家知识产权局提交的专利申请。
本有机硅微粉及其制备方法和应用在说明书摘要公布了：本发明涉及光学材料技术领域，公开了有机硅微粉及其制备方法和应用。公开的有机硅微粉，其由多个聚硅氧烷微球构成，每个聚硅氧烷微球的表面相对圆滑度为R，1.02≤R≤1.30，其中，R=RqRa，Rq为聚硅氧烷微球的均方根面粗糙度，Ra为聚硅氧烷微球的平均面粗糙度；有机硅微粉的相对尺寸均一度为RSU，RSU=1‑φd2≥0.992，其中，φ为有机硅微粉直径的方差，d为有机硅微粉的平均直径。该有机硅微粉有较高的光线利用率，较高的光透过率，光散射和扩散的均匀性好；应用于光扩散材料中后光线控制精细度高，透光率和扩散性好，光的透射率和亮度更高；作为形成涂层的原料时形成的涂层平整性好。
本发明授权有机硅微粉及其制备方法和应用在权利要求书中公布了：1.一种有机硅微粉，其特征在于，其由多个聚硅氧烷微球构成，每个所述聚硅氧烷微球的表面相对圆滑度为R，1.02≤R≤1.30，其中，R=RqRa，Rq为所述聚硅氧烷微球的均方根面粗糙度，Ra为所述聚硅氧烷微球的平均面粗糙度； 所述有机硅微粉的相对尺寸均一度为RSU，RSU=1-φd2≥0.992，其中，φ为所述有机硅微粉直径的方差，d为所述有机硅微粉的平均直径。
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