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龙图腾网获悉皇裕精密技术(苏州)股份有限公司申请的专利低成本改善衬套公差的镶件结构及模具获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120716100B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-04发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511172935.2，技术领域涉及：B29C45/14；该发明授权低成本改善衬套公差的镶件结构及模具是由赵磊;夏斌设计研发完成，并于2025-08-21向国家知识产权局提交的专利申请。

本低成本改善衬套公差的镶件结构及模具在说明书摘要公布了：本发明公开了一种低成本改善衬套公差的镶件结构及模具，包括定位柱体，顶部具备限位孔；活动镶件，与限位孔活动装配，活动镶件具备沿背离限位孔深度方向的弹性势能，活动镶件的上部分从限位孔中露出；其中，沿限位孔的深度方向，活动镶件依次具备上圆柱段、圆台段、下圆柱段，上圆柱段的外径小于下圆柱段的外径，圆台段的外径渐大；圆台段与上圆柱段的交界处的外壁通过内圆角过渡；上圆柱段背离圆台段的轴端边沿具备外圆角；当活动镶件位于远离限位孔底面的极限位置时，圆台段与下圆柱段的交界处与限位孔的开口边沿齐平。采用此发明活动镶件锥面浮动补偿衬套公差，便于降低衬套的尺寸精度，降低衬套放置难度，也利于降低衬套的成本。

本发明授权低成本改善衬套公差的镶件结构及模具在权利要求书中公布了：1.一种低成本改善衬套公差的镶件结构，其特征在于，包括： 定位柱体，顶部具备限位孔； 活动镶件，与限位孔活动装配，所述活动镶件具备沿背离限位孔深度方向的弹性势能，所述活动镶件的上部分从限位孔中露出； 其中，沿限位孔的深度方向，所述活动镶件依次具备上圆柱段、圆台段、下圆柱段，所述上圆柱段的外径小于下圆柱段的外径，所述圆台段的外径渐大； 所述圆台段与上圆柱段的交界处的外壁通过内圆角过渡； 所述上圆柱段背离圆台段的轴端边沿具备外圆角； 当活动镶件位于远离限位孔底面的极限位置时，所述圆台段与下圆柱段的交界处与限位孔的开口边沿齐平； 所述定位柱体的限位孔包括同轴相连的上孔洞和下盲孔，所述上孔洞的内径大于下盲孔的内径，所述活动镶件位于上孔洞内，所述下盲孔内设置有压簧，所述压簧的一端与活动镶件的一端接触； 所述活动镶件在下圆柱段具备腰型孔，所述腰型孔的长度方向与活动镶件的轴线平行，所述定位柱体的限位孔内部固定有径向延伸的限位销，所述限位销位于腰型孔内。

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