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龙图腾网获悉苏州鲸耀科技有限公司申请的专利基于磁控溅射镀铝工艺的双层镀铝复合膜及其制备和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120719265B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-04发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511187693.4，技术领域涉及：C23C14/35；该发明授权基于磁控溅射镀铝工艺的双层镀铝复合膜及其制备和应用是由黄磊设计研发完成，并于2025-08-25向国家知识产权局提交的专利申请。

本基于磁控溅射镀铝工艺的双层镀铝复合膜及其制备和应用在说明书摘要公布了：本发明公开了一种基于磁控溅射镀铝工艺的双层镀铝复合膜及其制备和应用，属于镀铝复合膜制备技术领域。该方法中通过加热和利用等离子体轰击靶材表面的方式为进行磁控溅射镀铝提供所需要的等离子体环境，当镀铝基材处于热稳定状态时，功能性涂层丙烯酸类树脂能有效减少溅射过程中镀铝膜因热应力引发的膜变形的问题；通过设置两侧面的两次磁控溅射镀铝，不仅能保证了镀铝膜的厚度以及均匀度，而且还保证了每次镀铝膜对水汽和氧气的阻隔性，也为后续继续镀膜提供了更优的粘结界面；在磁控溅射镀铝处理后进行复合，达到精准控制复合性能。最终通过双次镀铝+双次复合，实现了镀铝复合膜对水汽、氧气的高阻隔。

本发明授权基于磁控溅射镀铝工艺的双层镀铝复合膜及其制备和应用在权利要求书中公布了：1.一种基于磁控溅射镀铝工艺的双层镀铝复合膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤： S1、在2×10-4Pa以上的本底真空环境下，选取镀铝基材并在其一侧面涂布功能性涂层，干燥； 通过质量流量计控制使环境内氩气分压达到0.13~0.15Pa后，加热、利用等离子体轰击靶材表面，然后进行第一次磁控溅射镀铝处理后，获得薄膜A； S2、收卷薄膜A进行翻面，在镀铝基材另一侧面涂布功能性涂层，干燥、在本底真空、氩气分压气氛下，再次利用等离子体轰击靶材表面，然后进行第二次磁控溅射镀铝处理，获得复合膜； 所述S1中，所述镀铝基材为聚对苯二甲酸乙二酯薄膜、聚丙烯薄膜、聚乙烯薄膜和聚偏氟乙烯薄膜中的任意一种； 所述镀铝基材厚度为5~10μm； 所述功能性涂层为丙烯酸类树脂或聚氨酯类树脂； 所述丙烯酸类树脂为热塑性丙烯酸树脂； 采用涂布机进行涂布，所述涂布速度为10~100mmin，涂布量为1~10gm2； 所述干燥温度为40~150℃，时长为3~5min； 所述第一次磁控溅射镀铝处理流程为：在本底真空、氩气分压达到0.13~0.15Pa，加热至175~180℃，溅射功率为1100~1200w进行10~60min； 所述S2中，在本底真空2×10-4Pa以上、氩气分压达到0.13~0.15Pa，加热至175~180℃，溅射功率为1100~1200w进行10~60min的第二次磁控溅射镀铝处理。

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