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国镓芯科(成都)半导体科技有限公司请求不公布姓名获国家专利权

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龙图腾网获悉国镓芯科(成都)半导体科技有限公司申请的专利一种用于压力加热炉的恒温排气系统获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN120720878B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-04发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202511206744.3,技术领域涉及:H01L21/67;该发明授权一种用于压力加热炉的恒温排气系统是由请求不公布姓名;请求不公布姓名设计研发完成,并于2025-08-27向国家知识产权局提交的专利申请。

一种用于压力加热炉的恒温排气系统在说明书摘要公布了:本发明涉及半导体制造设备技术领域,尤其涉及一种用于压力加热炉的恒温排气系统,它包括加热炉体和保温炉膛,所述保温炉膛的内腔下端设置有吸附机构,所述吸附机构的中心设置有与加热炉体外径适配的圆孔,所述圆孔上设置有多个可活动启闭的活动式炉底门,所述加热炉体的侧壁沿轴向设置有多个导向轨道,多个所述导向轨道沿加热炉体的轴向环绕设置。本发明在加热炉体和保温炉膛分离后,活动式炉底门自动封闭保温炉膛的内部腔室,降低氨气泄露到外部环境的风险;在保温炉膛升降过程中吸附机构转动,提升活性炭的吸附效果以及对保温炉膛内壁积累的杂质颗粒进行清理;此外还解决了逸散速率慢、操作步骤繁多和空间占用等问题,进而提升生产效率。

本发明授权一种用于压力加热炉的恒温排气系统在权利要求书中公布了:1.一种用于压力加热炉的恒温排气系统,包括加热炉体1和保温炉膛2,所述保温炉膛2的顶部安装有液压升降杆3,所述保温炉膛2的底部设置有开口,所述保温炉膛2的内腔设置有容纳加热炉体1的空间,其特征在于:所述保温炉膛2的内腔下端设置有吸附机构4,所述吸附机构4的中心设置有与加热炉体1外径适配的圆孔5,所述圆孔5上设置有多个可活动启闭的活动式炉底门6,所述加热炉体1的侧壁沿轴向设置有多个导向轨道7,多个所述导向轨道7沿加热炉体1的轴向环绕设置,所述保温炉膛2的内腔壁环绕设置有卡槽8,所述吸附机构4的周沿与卡槽8嵌合连接,所述活动式炉底门6的底部设置有与导向轨道7适配嵌合的卡接件9,所述吸附机构4的顶面设置有刮板12,所述刮板12位于吸附机构4的周沿且与保温炉膛2的内壁贴合设置。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人国镓芯科(成都)半导体科技有限公司,其通讯地址为:610000 四川省成都市中国(四川)自由贸易试验区高新区天府五街200号3号楼A区10层1001室;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。

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