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龙图腾网获悉胜科纳米(苏州)股份有限公司申请的专利半导体微观结构尺寸测量方法及装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120726112B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-04发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511134504.7，技术领域涉及：G06T7/60；该发明授权半导体微观结构尺寸测量方法及装置是由朱文飞;张俊林;王玉柱;李晓旻设计研发完成，并于2025-08-14向国家知识产权局提交的专利申请。

本半导体微观结构尺寸测量方法及装置在说明书摘要公布了：本发明公开了一种半导体微观结构尺寸测量方法、装置、电子设备及存储介质。所述方法包括采用通用半导体微观结构尺寸测量方式对获取的半导体图像进行尺寸测量，获取微观结构尺寸测量结果；其中，通用半导体微观结构尺寸测量方式采用开集图像分割模型对半导体图像进行图像分割，开集图像分割模型支持分割任意半导体微观结构；将微观结构尺寸测量结果作为训练数据集输入至闭集图像分割模型中进行模型训练，以采用专用半导体微观结构尺寸测量方式对待测量半导体微观结构进行尺寸测量；其中，闭集图像分割模型用于分割训练数据集中包括的半导体微观结构。采用本方案，自动完成微观结构尺寸测量，缩短测量时间，减少人工成本，提升分析人员的工作效率。

本发明授权半导体微观结构尺寸测量方法及装置在权利要求书中公布了：1.一种半导体微观结构尺寸测量方法，其特征在于，所述方法包括： 采用通用半导体微观结构尺寸测量方式对获取的半导体图像进行尺寸测量，获取微观结构尺寸测量结果；其中，通用半导体微观结构尺寸测量方式采用开集图像分割模型对半导体图像进行图像分割，开集图像分割模型支持分割任意半导体微观结构； 将所述微观结构尺寸测量结果作为训练数据集输入至闭集图像分割模型中进行模型训练，以采用专用半导体微观结构尺寸测量方式对待测量半导体微观结构进行尺寸测量；其中，所述闭集图像分割模型用于分割训练数据集中包括的半导体微观结构； 其中，所述采用通用半导体微观结构尺寸测量方式对获取的半导体图像进行尺寸测量，获取微观结构尺寸测量结果，包括： 将获取的半导体图像进行图像格式转换，并确定所述半导体图像的像素距离转换关系； 采用开集图像分割模型对半导体图像进行图像分割，确定图像分割结果；其中，图像分割结果包括至少两个掩膜，每个掩膜包括至少一个半导体微观结构； 对图像分割结果包括的至少两个掩膜进行预处理，得到目标掩膜集合；其中，所述预处理包括去除重叠的掩膜、去除掩膜中的噪声、去除噪声掩膜、去除位于图像边缘的掩膜、去除图像比例尺区域的掩膜以及去除背景掩膜； 依据半导体图像的像素距离转换关系，确定目标掩膜的尺寸测量结果；其中，所述目标掩膜中包括一个半导体微观结构。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人胜科纳米(苏州)股份有限公司，其通讯地址为：215000 江苏省苏州市工业园区金鸡湖大道99号苏州纳米城西北区09栋507室；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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