辰轩半导体设备(江苏)有限公司胡小辉获国家专利权
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龙图腾网获悉辰轩半导体设备(江苏)有限公司申请的专利双轴摆动式抛光机获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223506929U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-04发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422743549.1，技术领域涉及：B24B29/02；该实用新型双轴摆动式抛光机是由胡小辉设计研发完成，并于2024-11-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本双轴摆动式抛光机在说明书摘要公布了：本实用新型公开的一种双轴摆动式抛光机，包括装置本体与可旋转的抛光盘；装置本体包括设置在底部的工作台以及设置在工作台顶部的壳体；抛光盘设置在工作台的顶部；工作台顶部且位于抛光盘的两侧对称设置有第一上料组件与第二上料组件，第一上料组件与第二上料组件均用于晶片上料；工作台上并列设置有第一抛光组件与第二抛光组件，第一抛光组件与第二抛光组件均用于抓取晶片并下压贴合至抛光盘的顶部；通过并列设置第一抛光组件与第二抛光组件，实现两组晶片同时抛光，提高抛光效率。
本实用新型双轴摆动式抛光机在权利要求书中公布了：1.一种双轴摆动式抛光机，包括：装置本体与可旋转的抛光盘；其特征在于， 所述装置本体包括设置在底部的工作台以及设置在工作台顶部的壳体； 所述抛光盘设置在所述工作台的顶部； 所述工作台顶部且位于所述抛光盘的两侧对称设置有第一上料组件与第二上料组件，所述第一上料组件与所述第二上料组件均用于陶瓷盘上料； 所述工作台上并列设置有第一抛光组件与第二抛光组件，所述第一抛光组件与所述第二抛光组件均用于吸附陶瓷盘并下压贴合至抛光盘的顶部。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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