株式会社新川永口悠二获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社新川申请的专利半导体装置的制造装置及制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114981938B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-07发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080045533.5，技术领域涉及：H01L21/60；该发明授权半导体装置的制造装置及制造方法是由永口悠二;瀬山耕平设计研发完成，并于2020-12-14向国家知识产权局提交的专利申请。
本半导体装置的制造装置及制造方法在说明书摘要公布了：本说明书公开一种半导体装置的制造装置及制造方法，可进一步提高芯片相对于基板的平行度。半导体装置的制造装置包括：平台；安装头，具有芯片保持面，将芯片配置于基板；测定机构，测定由所述安装头载置于所述基板的安装面的芯片相对于所述安装面的倾斜角作为检测倾斜角Sd；保持面调整机构，变更保持面倾斜角Sb，所述保持面倾斜角Sb为所述芯片保持面相对于所述载置面的倾斜角；以及控制器，基于所述检测倾斜角Sd来算出所述保持面倾斜角Sb的修正量C，根据所算出的所述修正量C利用所述保持面调整机构使所述保持面倾斜角Sb变更。
本发明授权半导体装置的制造装置及制造方法在权利要求书中公布了：1.一种半导体装置的制造装置，其特征在于，包括： 平台，具有载置基板的载置面； 安装头，具有保持芯片的芯片保持面，将所述芯片配置于在所述平台上载置的所述基板； 测定机构，测定由所述安装头载置于所述基板的安装面的芯片相对于所述安装面的倾斜角作为检测倾斜角； 保持面调整机构，包括按压所述芯片保持面的倾斜板，驱动所述倾斜板以变更保持面倾斜角，所述保持面倾斜角为所述芯片保持面相对于所述载置面的所述倾斜板的倾斜角；以及 控制器，基于所述检测倾斜角来算出所述保持面倾斜角的修正量，根据所算出的所述修正量利用所述保持面调整机构使所述保持面倾斜角变更， 将所述芯片保持面按压于所述保持面倾斜角已变更的所述倾斜板，来变更所述芯片保持面的角度。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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