台湾积体电路制造股份有限公司许倍诚获国家专利权
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龙图腾网获悉台湾积体电路制造股份有限公司申请的专利防护组件及形成倍缩光罩组件及增加防护薄膜寿命的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115032861B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-07发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110901466.9，技术领域涉及：G03F1/62；该发明授权防护组件及形成倍缩光罩组件及增加防护薄膜寿命的方法是由许倍诚;连大成;李信昌;高蔡胜;林进祥设计研发完成，并于2021-08-06向国家知识产权局提交的专利申请。
本防护组件及形成倍缩光罩组件及增加防护薄膜寿命的方法在说明书摘要公布了：一种防护组件及形成倍缩光罩组件和增加防护薄膜寿命的方法，防护组件包括防护薄膜及在防护薄膜的外表面上的保形涂层。防护薄膜可由多个层形成且具有高透射率、低偏转及小微孔尺寸的组合。保形涂层旨在保护防护薄膜免受可能由于EUV曝光期间所产生的热量及氢电浆而发生的损坏。
本发明授权防护组件及形成倍缩光罩组件及增加防护薄膜寿命的方法在权利要求书中公布了：1.一种防护组件，其特征在于，包括： 一防护薄膜，具有一外表面及一内表面，该防护薄膜包括至少一个第一纳米管薄膜层、一第二纳米管薄膜层及一石墨烯薄膜层，该石墨烯薄膜层形成该防护薄膜的该外表面； 一保形涂层，至少在该防护薄膜的该外表面上；以及 一安装框架附接至一边框，该边框接触该防护薄膜的该内表面。
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