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龙图腾网获悉上海大学申请的专利复杂微结构表面台阶高度或沟槽深度不确定度快速评估方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115060173B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-07发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210767011.7，技术领域涉及：G01B11/06；该发明授权复杂微结构表面台阶高度或沟槽深度不确定度快速评估方法是由王陈;孟宪昱;魏鹤鸣设计研发完成，并于2022-06-30向国家知识产权局提交的专利申请。

本复杂微结构表面台阶高度或沟槽深度不确定度快速评估方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种复杂微结构表面台阶高度或沟槽深度不确定度快速评估方法，属于光学测量技术领域。本发明通过获取集成电路复杂微结构表面中台阶或沟槽的三维形貌原始测量数据，降维后得到以X、Y平面的有效三维形貌矩阵Zm，并分解为重构矩阵A和B，对应行的数据点组成点阵；对点阵中的对应行的数据点聚类后的质心距离转化为台阶高度或沟槽深度值；遍历所有行数据，将台阶高度或沟槽深度值的均值作为关键尺寸表征结果，均方差值作为标准不确定度；对所有行数据的表征值升序排列，取95％置信区间的上下限作为关键尺寸不确定度分布范围。本发明通过一次测量，可以实现复杂微结构表面所有点的台阶高度或沟槽深度表征，同时可实现不确定度评定。

本发明授权复杂微结构表面台阶高度或沟槽深度不确定度快速评估方法在权利要求书中公布了：1.复杂微结构表面台阶高度或沟槽深度不确定度快速评估方法，其特征在于，包括以下步骤： 1获取集成电路的微结构表面中台阶或沟槽的三维形貌原始测量数据； 2对所述的三维形貌原始测量数据进行降维，得到以X、Y平面坐标位置的有效三维形貌矩阵Zm，具体包括： 2.1将集成电路三维微结构表面以X、Y平面建立坐标系，对三维形貌原始测量数据转化为面型矩阵： 其中，z′MN表示集成电路中三维结构在M,N坐标位置处的表面高度或深度值，N表示原始测量数据中X方向的长度，M表示原始测量数据中Y方向的长度； 2.2对面型矩阵进行有效区域裁剪，所述的有效区域中包含集成电路的台阶结构或沟槽结构；对裁剪后的面型矩阵重新定义坐标位置，得到有效三维形貌矩阵Zm： 其中，zmn表示集成电路中台阶结构或沟槽结构在m,n坐标位置处的表面高度或深度值，n表示台阶结构或沟槽结构有效区域X方向的长度，m表示台阶结构或沟槽结构有效区域Y方向的长度； 3对有效三维形貌矩阵Zm进行数据重构，分解为独立的重构矩阵A和重构矩阵B； 4将重构矩阵A和重构矩阵B中对应行的数据点组成点阵； 5先进行滤波操作，用于剔除点阵中的异常点，所述的滤波操作采用均值滤波、中值滤波、限幅滤波法中的一种或多种；对步骤4得到的点阵中的对应行的数据点进行聚类，求取质心距离并转化为台阶高度或沟槽深度值；遍历所有行数据，将台阶高度或沟槽深度值的均值作为关键尺寸表征结果，均方差值作为关键尺寸表征结果的标准不确定度； 6对步骤5得到的所有行数据对应的台阶高度或沟槽深度值按照从小到大的顺序进行排列，获得排列向量；获取排列向量中95％置信区间的上下限作为台阶高度或沟槽深度不确定度分布范围。

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