浙江万正电子科技股份有限公司吉祥书获国家专利权
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龙图腾网获悉浙江万正电子科技股份有限公司申请的专利一种适用于镀镍电路板的工业退镍剂及其使用方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115772670B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-07发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211521018.7，技术领域涉及：C23F1/28；该发明授权一种适用于镀镍电路板的工业退镍剂及其使用方法是由吉祥书;王德瑜;宋秀全;邓建设计研发完成，并于2022-11-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种适用于镀镍电路板的工业退镍剂及其使用方法在说明书摘要公布了：一种适用于镀镍电路板的工业退镍剂，其由氢氟酸、柠檬酸、双氧水、苯并三氮唑，以及光亮剂组成。所述氢氟酸的浓度为20～100mlL，所述柠檬酸的浓度为10～50mlL，所述双氧水的浓度为30～150mlL，所述苯并三氮唑的浓度为0.1～0.6gL,所述光亮剂的浓度为5～20mlL。所述工业退镍剂由上述各浓度的成分混合而成，所述镀镍电路板浸泡在常温的该工业退镍剂中直接进行退镍。本工业退镍剂采用氢氟酸、柠檬酸和双氧水三者作为一个整体，解决了退镀过程基材铜损伤的技术难题。同时，在使用时，该退镍剂在常温下使用，避免蒸发出酸性气体对人体及其他物体形成腐蚀，从而可以保护环境以及降低生产成本。本发明还提供了一种所述工业退镍剂的使用方法。
本发明授权一种适用于镀镍电路板的工业退镍剂及其使用方法在权利要求书中公布了：1.一种适用于镀镍电路板的工业退镍剂，其特征在于：所述适用于镀镍电路板的工业退镍剂由氢氟酸、柠檬酸、双氧水、苯并三氮唑，以及光亮剂组成，所述氢氟酸的浓度为20～100mlL，所述柠檬酸的浓度为10～50mlL，所述双氧水的浓度为30～150mlL，所述苯并三氮唑的浓度为0.1～0.6gL,所述光亮剂的浓度为5～20mlL，所述工业退镍剂由上述各浓度的成分混合而成，所述镀镍电路板浸泡在常温的该工业退镍剂中直接进行退镍，在室温下将镀镍电路板浸泡在该工业退镍剂中2～3分钟，即可完成退镍制程。
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