有研亿金新材料有限公司;有研亿金新材料(山东)有限公司任泽华获国家专利权
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龙图腾网获悉有研亿金新材料有限公司;有研亿金新材料(山东)有限公司申请的专利高熵合金镀层、带高熵合金镀层的镍基接口锥及制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119710555B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-07发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411618503.5，技术领域涉及：C23C14/16；该发明授权高熵合金镀层、带高熵合金镀层的镍基接口锥及制备方法是由任泽华;何金江;吕超;尚再艳;刘书芹;张晓娜设计研发完成，并于2024-11-13向国家知识产权局提交的专利申请。
本高熵合金镀层、带高熵合金镀层的镍基接口锥及制备方法在说明书摘要公布了：本发明属于高熵合金技术领域，具体涉及一种高熵合金镀层、带高熵合金镀层的镍基接口锥及制备方法。所述高熵合金镀层包括：钽15‑20％；钨10‑15％；镍14‑20％；铁3‑8％；钼9‑13％；余量为钌、铂、锆、硼中的一种或多种。高熵合金镀层的晶粒尺寸≤5μm、致密度≥99.8％、厚度为0.1‑0.6mm、表面粗糙度＜0.5μm、热导率≥140Wm·K。本发明制备的带高熵合金镀层的镍基接口锥在4000‑8000K高温等离子体轰击下连续工作时间≥80h、在pH≤3或pH≥9的工作环境中不会发生腐蚀脱落，且杂质引入量≤5ppm。此外，本发明所述带高熵合金镀层的镍基接口锥，相较于带铂族金属涂层的镍基接口锥，其镀层的制作成本大于可以节约20％‑30％。
本发明授权高熵合金镀层、带高熵合金镀层的镍基接口锥及制备方法在权利要求书中公布了：1.一种带高熵合金镀层的镍基接口锥的制备方法，其特征在于，包括以下步骤： S1，溅射镀膜：在惰性气体氛围中，以所述高熵合金为靶材，向镍基接口锥表面以磁控溅射的方式制备高熵合金镀层，所述高熵合金以质量百分比计，包括： 钽：15-20％； 钨：10-15％； 镍：14-20％； 铁：3-8％； 钼：9-13％； 余量为钌、铂、锆、硼中的一种或多种； 所述高熵合金镀层的晶粒尺寸≤1μm、致密度≥99.8％； S2，镀层热处理：将表面溅射有高熵合金镀层的镍基接口锥在进行真空热处理，结束后冷却，得到所述带高熵合金镀层的镍基接口锥；所述真空热处理的真空度≤2×10-4Pa、保温温度为300-500℃、保温时间为0.5-3h。
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