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龙图腾网获悉昆明理工大学申请的专利一种NiMoO4/Ni(OH)2@NiPx分层结构催化剂及其制备方法和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119753733B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-07发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411792844.4，技术领域涉及：C25B11/091；该发明授权一种NiMoO4/Ni(OH)2@NiPx分层结构催化剂及其制备方法和应用是由姚耀春;唐健;杨斌;方军;王晨设计研发完成，并于2024-12-08向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种NiMoO4/Ni(OH)2@NiPx分层结构催化剂及其制备方法和应用在说明书摘要公布了：本发明公开了一种NiMoO4NiOH2@NiPx分层结构催化剂及其制备方法和应用。所述催化剂的制备方法包括以下步骤：步骤1、对镍基底进行清洁处理；步骤2、通过水热法在镍基底上合成钼酸镍NiMoO4前驱体；步骤3、通过电沉积方法在NiMoO4表面生长氢氧化镍@磷化镍复合物NiOH2@NiPx。该催化剂具有三维分层结构，一维NiMoO4微米纳米棒作为支撑，二维NiOH2纳米片生长在NiMoO4表面，零维NiPx纳米颗粒镶嵌在NiOH2纳米片上。该催化剂在析氢反应中表现出卓越的性能，具备高活性和良好的稳定性，适用于清洁氢气生产。

本发明授权一种NiMoO4/Ni(OH)2@NiPx分层结构催化剂及其制备方法和应用在权利要求书中公布了：1.一种NiMoO4NiOH2@NiPx分层结构催化剂的制备方法，其特征在于，包括以下步骤： 步骤1、镍基底处理：将镍基底使用稀盐酸、去离子水和乙醇依次进行超声清洗，去除表面氧化层和油污后自然干燥； 步骤2、前驱体NiMoO4的制备：将镍盐和钼酸铵溶解于去离子水中，搅拌至溶液均匀，将步骤1中处理好的镍基底置于该溶液中，并转移至高压反应釜中进行水热反应，水热反应温度为100~160℃，时间为4~14h，反应结束后，冷却至室温，取出镍基底，使用去离子水和乙醇清洗，并在60°C烘箱中干燥，得到前驱体NiMoO4； 步骤3、电沉积NiOH2@NiPx复合物：将硝酸镍、氟化铵和次亚磷酸钠溶解于去离子水中，搅拌至溶液澄清，以步骤2制备的负载NiMoO4的镍基底作为工作电极，惰性阳极为阳极，进行电沉积，电流密度为10~500mAcm2，温度为20~80℃，电沉积时间为1~120min，电沉积结束后，取出镍基底，依次用去离子水和乙醇清洗，并在60°C烘箱中干燥，得到NiMoO4NiOH2@NiPx催化剂。

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