无锡尚积半导体科技股份有限公司张超获国家专利权
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龙图腾网获悉无锡尚积半导体科技股份有限公司申请的专利PVD中的靶材冷却装置及冷却方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119980168B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-07发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510409848.8，技术领域涉及：C23C14/35；该发明授权PVD中的靶材冷却装置及冷却方法是由张超;张陈斌;丁聪;欧阳军晨;宋永辉;王世宽设计研发完成，并于2025-04-02向国家知识产权局提交的专利申请。
本PVD中的靶材冷却装置及冷却方法在说明书摘要公布了：本发明提出了PVD中的靶材冷却装置及冷却方法，属于半导体制造技术领域。本发明装置包括设置在磁控溅射设备的腔体内的磁控组件，磁控组件包括连接在磁控组件顶部的转轴，以及分别呈圆形分布的内圈磁铁和外圈磁铁，内圈磁铁和外圈磁铁底部均设置有磁板；磁控组件通过转轴与旋转驱动组件连接；磁控组件内设置有冷却流道，磁控组件还与石墨层相接触。由于在磁控组件内设置冷却流道，避免冷却液直接与磁控组件接触，并保证了磁控组件和靶材之间的合适距离。当石墨层逐渐磨损变薄时，本发明采用气缸结合移动块和巧妙的凹槽设置，在磁控组件的旋转作用下令所有外圈磁铁与磁板实现脱离，从而降低整体的磁感应强度，始终保持合适的磁感应强度。
本发明授权PVD中的靶材冷却装置及冷却方法在权利要求书中公布了：1.PVD中的靶材冷却装置，其特征在于，包括设置在磁控溅射设备的腔体内的磁控组件，磁控组件包括连接在磁控组件顶部的转轴，以及分别呈圆形阵列分布的内圈磁铁和外圈磁铁，内圈磁铁和外圈磁铁底部均设置有磁板；磁控组件通过转轴与旋转驱动组件连接；磁控组件内设置有冷却流道，磁控组件还与石墨层相接触，所述石墨层设置于靶材背板上表面；磁控组件设置有与各外圈磁铁对应的安装凹槽，外圈磁铁顶部设置有连接头，连接头连接至磁控组件的安装凹槽内；所述安装凹槽中间窄，上下两端各具有用于容纳连接头的安装区域；各外圈磁铁侧面设置有移动槽，腔体内还设置有直线驱动机构，直线驱动机构动作端连接有移动块，在直线驱动机构作用下移动块能够伸入移动槽内，所述移动槽具有斜面。
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