买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！

龙图腾网获悉臻芯龙为(上海)半导体材料有限公司申请的专利一种附带气动密封的CVD真空反应器获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120400799B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-07发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510380480.7，技术领域涉及：C23C16/44；该发明授权一种附带气动密封的CVD真空反应器是由王琛茜设计研发完成，并于2025-03-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种附带气动密封的CVD真空反应器在说明书摘要公布了：本发明公开了一种附带气动密封的CVD真空反应器，涉及化学气相沉积技术领域，包括壳体、进气管、调节单元及置物单元，所述壳体内安装有加热设备，且所述壳体的顶端开设有安装孔，壳体的侧壁安装有进料门；所述调节单元包括基壳、流量喷管、可调喷头及自适应流量调节组件。本发明通过改变调节单元的喷射面积后产生的气压变化，使自适应流量调节组件自动完成对进气管流量的自适应调节，相较于现有技术中通过同步固定化的调节进气管的流量及调节单元的喷射面积，调节过程中气压会出现波动，本发明的调节单元在喷射面积改变后，能够使每个喷射孔排出的气态物质的流量与原先的流量趋于一致，避免影响到对基材的镀膜效果。

本发明授权一种附带气动密封的CVD真空反应器在权利要求书中公布了：1.一种附带气动密封的CVD真空反应器，包括壳体、进气管、调节单元及置物单元，所述壳体内安装有加热设备，且壳体的顶端开设有安装孔，所述进气管通过调节单元在安装孔处向壳体内部输送气态物质，所述置物单元安装在壳体内，壳体的侧壁安装有进料门；其特征在于，所述调节单元包括基壳、流量喷管、可调喷头及自适应流量调节组件； 其特征在于，所述基壳底部的边缘向外延伸形成能够完全覆盖安装孔的外延边，基壳通过外延边安装在壳体顶部并封堵安装孔，基壳内部中空形成过渡腔； 所述进气管的输出端与流量喷管的顶端连接，流量喷管的底端封堵设置并向下竖直贯穿基壳顶壁的中心延伸至过渡腔内，流量喷管底端的外壁上沿圆周方向均匀设置有条状气口；所述基壳的底壁贯穿开设有十字型槽，十字型槽由四个形状为直角三角形的条状槽组成，且四个条状槽以其直角顶点为公共中心点相互垂直布置； 所述可调喷头密封转动装配在基壳的外延边上，可调喷头的顶面紧贴基壳的底壁，可调喷头对应十字型槽位置处呈十字形阵列分布有若干个喷射孔，可调喷头还连接有用于驱使其转动的第一驱动构件； 所述自适应流量调节组件包括密封滑动套设在流量喷管的条状气口处的封堵环及第二驱动构件，第二驱动构件用于驱使封堵环滑动以自适应调节条状气口的封堵面积，使过渡腔内的气压处于预设气压值。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人臻芯龙为(上海)半导体材料有限公司，其通讯地址为：201800 上海市嘉定区嘉新公路1126号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。