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龙图腾网获悉深圳赛贝尔自动化设备有限公司申请的专利一种硅片边缘抛光系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120696902B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-07发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511182976.X，技术领域涉及：B24B29/02；该发明授权一种硅片边缘抛光系统是由范镜;吴赣陶;钟念龙设计研发完成，并于2025-08-22向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种硅片边缘抛光系统在说明书摘要公布了：本发明公开了一种硅片边缘抛光系统，涉及硅片抛光技术领域，用于对硅片侧部抛光，硅片侧部包括倾斜面A面、倾斜面B面和连接A面、B面竖直边缘侧面M面，以及硅片侧部设置有V型缺口，硅片边缘抛光系统包括顺序衔接的输送模块、纠偏定心模块、硅片边缘抛光模块、两组硅片倾斜面抛光模块、翻转模块、硅片V型缺口抛光模块及清洗模块，纠偏定心模块通过动态调整硅片中心建立工艺基准，边缘抛光模块采用罩设式抛光鼓组件驱动第一抛光瓦压触硅片边缘摩擦抛光，V型缺口抛光模块利用摆动板调节缺口倾角，配合抛光轮组件径向进给抛光，该设置显著提升大尺寸硅片抛光效率与良率。

本发明授权一种硅片边缘抛光系统在权利要求书中公布了：1.一种硅片边缘抛光系统，用于对硅片侧部抛光，所述硅片侧部包括倾斜面A面、倾斜面B面和连接A面、B面竖直边缘侧面M面，以及所述硅片侧部设置有V型缺口，其特征在于，所述抛光系统包括： 输送模块，顺序衔接各模块并运输硅片； 纠偏定心模块，包括纠偏组件及设于其上的定心组件，所述定心组件带动所述硅片Z向升降及旋转，并配合所述纠偏组件建立工艺基准坐标系； 硅片边缘抛光模块，所述硅片边缘抛光模块包括安装组件、抛光鼓组件以及第一抛光瓦，所述抛光鼓组件罩设于所述安装组件外部，所述安装组件固定所述硅片，所述抛光鼓组件内壁固定所述第一抛光瓦接触所述硅片侧部M面，所述抛光鼓组件通过转动，以驱动所述第一抛光瓦压触所述硅片边缘侧面M面摩擦抛光； 两组硅片倾斜面抛光模块，所述硅片倾斜面抛光模块包括能够逆向旋转的承载台和抛光旋转组件，所述抛光旋转组件位于所述承载台上方，所述抛光旋转组件垂向压触所述硅片倾斜面并顺向旋转； 翻转模块，设置于两组硅片倾斜面抛光模块之间，翻转所述硅片到预设角度； 硅片V型缺口抛光模块，包括抛光轮组件和摆动板，所述摆动板承载所述硅片并通过摆动调节所述硅片V型缺口角度，以配合所述抛光轮组件对V型缺口径向进给抛光； 清洗模块，对抛光完成的所述硅片进行清洗吹干； 所述纠偏定心模块还包括光幕传感器，所述光幕传感器与所述纠偏组件电连接，所述光幕传感器获取转动状态下所述硅片中心位置，以触发所述纠偏组件纠偏； 所述纠偏组件包括安装板；所述定心组件包括支撑板、旋转轴、托盘、第二驱动元件以及第三驱动元件，所述支撑板固接可沿Y向移动的移动板上方，所述旋转轴贯穿所述支撑板设置，且所述旋转轴底部与所述第二驱动元件驱动端连接，顶部与设置有真空孔的所述托盘固接，所述旋转轴内部中空腔体设吸附元件，所述吸附元件与所述托盘表面的吸附孔连通；所述第二驱动元件驱动所述旋转轴沿Z向升降使所述托盘承接或脱离所述硅片，所述第三驱动元件驱动所述旋转轴转动，带动所述托盘旋转所述硅片配合所述光幕传感器扫描所述硅片中心； 所述硅片边缘抛光模块还包括第四驱动元件和与所述第四驱动元件驱动端连接的第一驱动主轴； 所述抛光鼓组件包括抛光鼓上板、抛光鼓下板以及若干离心推压元件，所述抛光鼓上板与所述第一驱动主轴连接，所述抛光鼓上板和所述抛光鼓下板之间通过若干连接轴固定连接，所述离心推压元件两端滑动连接所述抛光鼓上板、所述抛光鼓下板，且所述离心推压元件位于相邻所述连接轴之间； 所述离心推压元件包括伸缩块以及适配所述伸缩块数量的重心球，所述抛光鼓上板和所述抛光鼓下板均设置有滑槽，所述伸缩块两端部分别滑动插接于对应的所述滑槽内； 所述抛光鼓上板和所述抛光鼓下板边缘侧部之间设置有围板，所述围板与所述伸缩块呈相对设置，所述围板转动设置有连接杆，所述连接杆一端与所述重心球连接，另一端贯穿所述围板与所述伸缩块抵接，所述伸缩块与所述第一抛光瓦连接。

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