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龙图腾网获悉武汉轻工大学申请的专利基于点云与高光谱成像的苹果边缘早期损伤检测方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120726621B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-07发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511157495.3，技术领域涉及：G06V20/68；该发明授权基于点云与高光谱成像的苹果边缘早期损伤检测方法是由李冰;曾山;陶威;汪一笑设计研发完成，并于2025-08-19向国家知识产权局提交的专利申请。

本基于点云与高光谱成像的苹果边缘早期损伤检测方法在说明书摘要公布了：本发明公开了基于点云与高光谱成像的苹果边缘早期损伤检测方法，属于苹果边缘早期损伤检测领域，包括以下步骤：S1、同步采集待检测苹果的高光谱图像与三维点云数据；S2、基于预处理后的多源异构数据，实现高光谱图像与三维点云数据的像素级对齐，并计算表面法向量与有效入射角；S3、基于引入可变指数的多项式核函数的Lambert反射模型，进行自适应光谱校正；S4、利用随机森林算法对校正后的光谱数据进行分类。采用上述基于点云与高光谱成像的苹果边缘早期损伤检测方法，通过融合三维点云与高光谱成像数据，结合空间配准、角度校正及随机森林算法进行多源异构数据协同分析，显著提升了苹果边缘早期损伤检测的精度与可靠性。

本发明授权基于点云与高光谱成像的苹果边缘早期损伤检测方法在权利要求书中公布了：1.一种基于点云与高光谱成像的苹果边缘早期损伤检测方法，其特征在于：包括以下步骤： S1、同步采集待检测苹果的高光谱图像与三维点云数据，获取包含光谱信息和几何特征的多源异构数据，并对原始多源异构数据进行预处理； S2、基于预处理后的多源异构数据，通过空间配准实现高光谱图像与三维点云数据的像素级对齐，并利用三维点云数据计算表面法向量与有效入射角，建立几何特征与光谱数据的映射关系； S3、基于引入可变指数的多项式核函数的Lambert反射模型，以及像元所在区域的空间几何特征进行自适应光谱校正，补偿待检测苹果曲面几何引起的光谱畸变； 步骤S3具体包括以下步骤： S31、通过三维点云数据将待检测苹果表面划分为中心区域和边缘区域，以获取参考光谱： 19； 式中，为中心区域的像素点数；为第个像素点的光谱值； S32、利用多项式核函数对不同入射角区域进行校正： 20； 其中， 21； 式中，为校正后处的光谱值，为校正前的处光谱值，为处的有效入射角，为角度校正核函数；、、和分别为角度校正核函数的系数； 且构建以下综合目标函数： 22； 其中， 23； 24； 25； 式中，、和均为权重系数；为光谱相关系数；为光谱角度映射；为均方根误差；为校正后的光谱值的均值；为参考光谱的均值；为光谱波段的数量；为校正后的光谱值在处的最小值；和分别为校正后的光谱值的全局最大值和全局最小值；和分别为参考光谱的最大值和最小值；表示光谱波段； S4、利用随机森林算法对校正后的光谱数据进行分类，得到待检测苹果边缘损伤检测结果。

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