江苏晶久微电子材料有限公司张伟获国家专利权
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龙图腾网获悉江苏晶久微电子材料有限公司申请的专利一种用于制造半导体的稀释剂过滤设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223517020U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-07发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422914348.3，技术领域涉及：B01D29/085；该实用新型一种用于制造半导体的稀释剂过滤设备是由张伟;李虎宝;张驰设计研发完成，并于2024-11-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种用于制造半导体的稀释剂过滤设备在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种用于制造半导体的稀释剂过滤设备，本实用新型涉及稀释剂过滤设备技术领域，该用于制造半导体的稀释剂过滤设备，包括收集罩，所述收集罩为顶端单向开口的箱体结构，本实用新型通过设置有放置在料斗中的收集罩，而收集罩的顶端开设有用于收集杂质的凹槽，通过利用开设在料斗中的渗液孔进行渗液，还可以通过利用收集罩的顶端凹槽来对于缓蚀剂中的杂质进行快速收集处理，通过设置有固定连接在导向槽中的举升推杆，使得其在进行使用时，可以通过启动安装在导向槽中的举升推杆来将移动座以及固定连接在移动座顶端面上的支撑架向上进行推出，该设计可以更加便于对于工作人员对于暂存桶的内部进行清洁。
本实用新型一种用于制造半导体的稀释剂过滤设备在权利要求书中公布了：1.一种用于制造半导体的稀释剂过滤设备，包括收集罩303，其特征在于：所述收集罩303为顶端单向开口的箱体结构，且收集罩303的顶端面上固定连接有导流柱304，导流柱304的主体为上细下粗的锥台型结构，且导流柱304的顶端面上固定连接有挂环305，挂环305的主体为环形结构，且挂环305与导流柱304共同组成了取出结构。
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