安踏(中国)有限公司陈文辉获国家专利权
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龙图腾网获悉安踏(中国)有限公司申请的专利一种负离子聚氨酯合成革获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN223520400U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-07发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202422619123.5,技术领域涉及:B32B27/40;该实用新型一种负离子聚氨酯合成革是由陈文辉;苏加明;陈欢欢;何秋梅;王勇;赵辉杰;杜东旭;孙荣基设计研发完成,并于2024-10-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种负离子聚氨酯合成革在说明书摘要公布了:本实用新型公开了一种负离子聚氨酯合成革,包括由内至外依次贴合的基布改性层、粘接层、负离子树脂层和面层;基布改性层包括基布本体以及设置于基布本体上的负离子聚氨酯树脂,负离子聚氨酯树脂至少部分地浸渍于基布本体内并形成负离子膜层;负离子树脂层包括聚氨酯树脂本体和分散于聚氨酯树脂本体内的负离子粉,粘接层粘连基布改性层和负离子树脂层。本实用新型提供一种负离子聚氨酯合成革,通过在各层中引入负离子材料,实现了负离子的稳定释放,并确保了产品的物理性能和耐久性。
本实用新型一种负离子聚氨酯合成革在权利要求书中公布了:1.一种负离子聚氨酯合成革,其特征是,包括由内至外依次贴合的基布改性层、粘接层3、负离子树脂层2和面层1;所述基布改性层包括基布本体以及设置于所述基布本体上的负离子聚氨酯树脂,所述负离子聚氨酯树脂至少部分地浸渍于所述基布本体内并形成负离子膜层;所述负离子树脂层2包括聚氨酯树脂本体和分散于所述聚氨酯树脂本体内的负离子粉,所述粘接层3粘连所述基布改性层和负离子树脂层2。
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