芯恩(青岛)集成电路有限公司聂子净获国家专利权
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龙图腾网获悉芯恩(青岛)集成电路有限公司申请的专利挡片固定装置及物理气相沉积治具系统获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223522649U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-07发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422556808.X，技术领域涉及：C23C14/50；该实用新型挡片固定装置及物理气相沉积治具系统是由聂子净;王国安设计研发完成，并于2024-10-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本挡片固定装置及物理气相沉积治具系统在说明书摘要公布了：本实用新型提供了一种挡片固定装置及物理气相沉积治具系统，其中，所述挡片固定装置包括承载件，用于承载挡片；限位组件，活动的设于所述承载件的边缘，用于固定所述挡片；弹性件，设于所述承载件，所述弹性件的一端与所述限位组件连接。本实用新型提供的挡片固定装置通过在承载件上活动设置限位组件，用于固定挡片，避免挡片在反应过程中位置出现偏移，与反应腔室发生剐蹭。并且由于限位组件采用弹性件活动连接，所以当挡片受热应力及热应变的影响时挡片不会容易发生破裂，避免了PVD系统进行机台条件测试和调试时对反应腔室造成污染。
本实用新型挡片固定装置及物理气相沉积治具系统在权利要求书中公布了：1.一种挡片固定装置，其特征在于，包括： 承载件，用于承载挡片； 限位组件，活动的设于所述承载件的边缘，用于固定所述挡片； 弹性件，设于所述承载件，所述弹性件的一端与所述限位组件连接； 所述限位组件包括若干个限位件，若干所述限位件沿所述承载件的边缘间隔设置，且所述限位件可沿所述承载件的径向移动； 若干所述弹性件的一端与对应的所述限位件连接。
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