东京毅力科创株式会社舆水地盐获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利等离子体处理装置及等离子体处理方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN113078040B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-11发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202011450996.8,技术领域涉及:H01J37/32;该发明授权等离子体处理装置及等离子体处理方法是由舆水地盐;玉虫元;井上雅博设计研发完成,并于2020-12-09向国家知识产权局提交的专利申请。
本等离子体处理装置及等离子体处理方法在说明书摘要公布了:公开的等离子体处理装置具备腔室、基板支承器、高频电源、偏置电源及控制部。偏置电源构成为周期性地将脉冲状的负极性的直流电压施加到基板支承器。控制部构成为控制高频电源。控制部为了降低来自高频电源的负载的反射波的功率电平,控制高频电源,以使在对基板支承器施加来自偏置电源的脉冲状的负极性的直流电压的周期内供给其频率变化的高频电力。
本发明授权等离子体处理装置及等离子体处理方法在权利要求书中公布了:1.一种等离子体处理装置,其具备: 腔室; 基板支承器,具有基座及设置于该基座上的静电吸盘,并构成为在所述腔室内支承载置于其上的基板; 高频电源,构成为产生为了从所述腔室内的气体生成等离子体而供给的高频电力; 偏置电源,与所述基板支承器电连接,构成为周期性地将脉冲状的负极性的直流电压即单一电压脉冲施加到所述基板支承器;及 控制部,构成为控制所述高频电源, 所述控制部为了降低来自所述高频电源的负载的反射波的功率电平,控制所述高频电源,以使在对所述基板支承器施加来自所述偏置电源的所述单一电压脉冲的周期内供给其频率变化的所述高频电力。
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