特林斯公司K·布雷克曼斯获国家专利权
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龙图腾网获悉特林斯公司申请的专利增加细胞质膜可透性的方法和适用于该方法的结构体获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114667339B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-11发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080065995.3，技术领域涉及：C12M1/42；该发明授权增加细胞质膜可透性的方法和适用于该方法的结构体是由K·布雷克曼斯;熊然华;S·德斯美特设计研发完成，并于2020-09-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本增加细胞质膜可透性的方法和适用于该方法的结构体在说明书摘要公布了：本发明涉及一种通过将至少一个细胞引导至包含能够吸收电磁辐射的颗粒的结构体上或附近来增加细胞质膜的可透性的方法。这些颗粒以0.001体积％至20体积％的浓度存在，并且嵌埋在结构体的材料中。结构体中存在的至少60％的颗粒嵌埋在材料中使得这些颗粒与结构体的自由区域表面S之间的最短距离L为1nm至500nm。本发明还涉及一种适合用于在光热过程中使细胞可透化的结构体和所述结构体的用途。
本发明授权增加细胞质膜可透性的方法和适用于该方法的结构体在权利要求书中公布了：1.一种增加细胞质膜的可透性以进行细胞不可透物质的细胞内递送的方法，所述方法包括以下步骤： 提供一种结构体，所述结构体包含材料并且包含嵌埋在所述材料中的能够吸收电磁辐射的颗粒，所述颗粒具有平均等效球直径d，所述结构体限定了体积V和自由区域表面S，所述颗粒在所述结构体中存在的浓度以颗粒体积结构体体积计为0.01体积％至10体积％，存在于所述结构体中的所述颗粒的至少P％嵌埋在所述材料中使得所述P％的颗粒与所述结构体的所述自由区域表面S之间的最短距离L为1nm至500nm；P至少为60％，其中，至少95％的所述颗粒没有暴露于所述结构体的所述自由区域表面； 将至少一个细胞引导至所述结构体上或距所述结构体小于100μm的距离处； 用电磁辐射照射所述结构体。
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