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龙图腾网获悉北京北方华创微电子装备有限公司申请的专利反应腔室及半导体工艺设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114937624B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-11发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210755007.9，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权反应腔室及半导体工艺设备是由盖克彬设计研发完成，并于2022-06-30向国家知识产权局提交的专利申请。

本反应腔室及半导体工艺设备在说明书摘要公布了：本发明公开一种反应腔室及半导体工艺设备，所述反应腔室包括腔室本体、静电卡盘、位置检测件和纠偏机构；所述静电卡盘位于所述腔室本体内，所述静电卡盘用于承载晶圆；所述静电卡盘上设置有进气孔，用于向所述晶圆吹气；多个所述位置检测件沿所述静电卡盘的周向间隔分布，用于检测所述进气孔向所述晶圆吹气时，所述晶圆是否偏离于所述静电卡盘上的预设位置；所述纠偏机构包括多个沿所述静电卡盘的周向间隔分布的驱动组件，多个所述驱动组件用于在所述位置检测件检测到所述晶圆偏离所述预设位置时相互配合，以将所述晶圆调整至所述预设位置。上述方案能够解决反应腔室的安全性和可靠性较差的问题。

本发明授权反应腔室及半导体工艺设备在权利要求书中公布了：1.一种反应腔室，其特征在于，包括： 腔室本体100； 静电卡盘200，所述静电卡盘200位于所述腔室本体100内，所述静电卡盘200用于承载晶圆600；所述静电卡盘200上设置有进气孔210，用于向所述晶圆600吹气； 多个位置检测件300，多个所述位置检测件300沿所述静电卡盘200的周向间隔且均匀分布，用于检测所述进气孔210向所述晶圆600吹气时，所述晶圆600是否偏离于所述静电卡盘200上的预设位置； 纠偏机构，所述纠偏机构包括多个沿所述静电卡盘200的周向间隔分布的驱动组件，多个所述驱动组件用于在所述位置检测件300检测到所述晶圆600偏离所述预设位置时相互配合，以将所述晶圆600调整至所述预设位置；所述驱动组件包括驱动源411、连接杆412和推动块413，所述驱动源411位于所述腔室本体100之外，所述腔室本体100的侧壁开设有通孔，所述连接杆412的一端与所述驱动源411相连接，所述连接杆412的另一端穿过所述通孔与所述推动块413相连接；多个所述推动块413沿所述静电卡盘200的周向间隔分布；所述驱动源411用于通过所述连接杆412驱动所述推动块413沿所述静电卡盘200的径向方向移动。

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