联华电子股份有限公司吴佳芳获国家专利权
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龙图腾网获悉联华电子股份有限公司申请的专利多层内连线结构及其制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115547980B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-11发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110726462.1，技术领域涉及：H01L23/528；该发明授权多层内连线结构及其制造方法是由吴佳芳;颜湘婕;黄旭昇;王志坚设计研发完成，并于2021-06-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本多层内连线结构及其制造方法在说明书摘要公布了：本发明公开一种具有散射测试层的多层内连线结构及其制造方法。所述多层内连线结构包括图案化反射层、块状反射层以及图案化测试层。所述图案化反射层设置于基底上，且包括彼此分隔开的第一反射图案以及第二反射图案。所述块状反射层设置于所述图案化反射层上。所述图案化测试层设置于所述块状反射层上。
本发明授权多层内连线结构及其制造方法在权利要求书中公布了：1.一种多层内连线结构，具有散射测试层，所述多层内连线结构包括： 图案化反射层，设置于基底上，且包括彼此分隔开的第一反射图案以及第二反射图案； 块状反射层，设置于所述图案化反射层上；以及 图案化测试层，设置于所述块状反射层上， 其中所述图案化反射层在所述基底上的投影面积与所述块状反射层在所述基底上的投影面积的比值介于0.75至0.90之间。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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