山东大学;燕山大学黄传真获国家专利权
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龙图腾网获悉山东大学;燕山大学申请的专利一种单晶β-Ga2O3MSM型探测器及其制备方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115566104B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-11发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202211324539.3,技术领域涉及:H10F71/00;该发明授权一种单晶β-Ga2O3MSM型探测器及其制备方法是由黄传真;田龙;刘含莲;史振宇;姚鹏;刘盾;邹斌;朱洪涛;王真;王敏婷;王军;徐龙华;黄水泉;曲美娜;许征凯;关亚彬设计研发完成,并于2022-10-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种单晶β-Ga2O3MSM型探测器及其制备方法在说明书摘要公布了:本发明公开了一种单晶β‑Ga2O3MSM型探测器及其制备方法,包括如下步骤:采用激光辅助水射流加工技术在单晶β‑Ga2O3衬底上加工槽体,形成三维形貌;利用HF溶液对加工后的单晶β‑Ga2O3衬底进行湿法刻蚀,去除加工损伤;对处理后的单晶β‑Ga2O3衬底表面进行Au蒸镀,在单晶β‑Ga2O3衬底表面覆盖Au薄膜;对蒸镀后的单晶β‑Ga2O3衬底表面进行研磨,去除未加工表面的Au薄膜,保留槽体内的Au薄膜,即得。
本发明授权一种单晶β-Ga2O3MSM型探测器及其制备方法在权利要求书中公布了:1.一种单晶β-Ga2O3MSM型探测器的制备方法,其特征在于:包括如下步骤: 采用激光辅助水射流加工技术在单晶β-Ga2O3衬底上加工槽体,形成三维形貌; 利用HF溶液对加工后的单晶β-Ga2O3衬底进行湿法刻蚀,去除加工损伤; 对处理后的单晶β-Ga2O3衬底表面进行Au蒸镀,在单晶β-Ga2O3衬底表面覆盖Au薄膜; 对蒸镀后的单晶β-Ga2O3衬底表面进行研磨,去除未加工表面的Au薄膜,保留槽体内的Au薄膜,即得; 激光辅助水射流加工技术中,纳秒激光的脉冲宽度为10~350ns,脉冲重复频率为315KHz、490KHz或1000KHz,扫描速度为1~16mms,水射流压强为4~16MPa; 激光单脉冲能量为0.02~0.1mJ,焦平面高度为-0.1~0.1mm; 湿法刻蚀的HF溶液的浓度为47%~49%; 湿法刻蚀温度5~25℃,刻蚀时间为8-15min; 所述槽体为倒梯形交叉槽体; 激光平均功率为20W、25W或30W; 加工次数为1、2或3次; 横向偏置距离为10μm或15μm。
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