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龙图腾网获悉北京鲁汶半导体科技有限公司申请的专利一种等离子刻蚀机的介质窗控速匀温装置及其方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115732301B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-11发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111006085.0，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权一种等离子刻蚀机的介质窗控速匀温装置及其方法是由刘海洋;郭颂;刘小波;张瑶瑶;王铖熠;张霄;胡冬冬;许开东设计研发完成，并于2021-08-30向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种等离子刻蚀机的介质窗控速匀温装置及其方法在说明书摘要公布了：本发明属于半导体芯片生产技术领域，具体涉及一种等离子刻蚀机的介质窗控速匀温装置及其方法，该装置包括正装散热风扇、斜装散热风扇以及斜装散热风扇屏蔽罩，正装散热风扇与斜装散热风扇围绕介质窗中垂线在屏蔽罩内顶壁上均匀间隔开交叉布置；正装散热风扇的出风面均竖直向下朝向加热器；正装散热风扇出风面所在平面始终与介质窗所在平面平行；每个斜装散热风扇的出风面均朝向加热器中心区域；斜装散热风扇底面所在平面始终与介质窗所在平面相交；斜装散热风扇屏蔽罩底面与介质窗中垂线之间夹角小于90°；正装散热风扇和斜装散热风扇的风速分别独立进行控制。该方法对正装散热风扇和斜装散热风扇转速进行调节，实现介质窗温度的均一性。

本发明授权一种等离子刻蚀机的介质窗控速匀温装置及其方法在权利要求书中公布了：1.一种等离子刻蚀机的介质窗控速匀温装置，包括介质窗002，所述介质窗002上方设置有加热器009，且所述介质窗002顶部罩设有屏蔽罩008，其特征在于：所述匀温装置包括至少两个正装散热风扇003、至少两个正装散热风扇屏蔽罩、至少两个斜装散热风扇004以及至少两个斜装散热风扇屏蔽罩006，其中： 所述正装散热风扇003与所述斜装散热风扇004围绕所述介质窗002中垂线在所述屏蔽罩008内顶壁上均匀间隔开且交叉布置； 每个所述正装散热风扇003固定在所述屏蔽罩008内顶壁，每个所述正装散热风扇003的出风面均竖直向下朝向所述加热器009； 每个所述正装散热风扇003出风面所在平面始终与所述介质窗002所在平面平行； 所述正装散热风扇屏蔽罩罩设在所述正装散热风扇003外部，且每个所述正装散热风扇屏蔽罩顶面与所述屏蔽罩008内顶壁连接； 每个所述斜装散热风扇004固定在所述斜装散热风扇屏蔽罩006内顶面，每个所述斜装散热风扇004的出风面均朝向所述加热器009中心区域； 每个所述斜装散热风扇004底面所在平面始终与所述介质窗002所在平面相交； 所述斜装散热风扇屏蔽罩006罩设在所述斜装散热风扇004外部，且每个所述斜装散热风扇屏蔽罩006的朝向所述屏蔽罩008内顶壁中心点的一端均与所述屏蔽罩008铰接； 每个所述斜装散热风扇屏蔽罩006底面与所述介质窗002中垂线之间夹角小于90°；所述正装散热风扇003和所述斜装散热风扇004的风速分别独立进行控制。

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