北京北方华创微电子装备有限公司都娴获国家专利权
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龙图腾网获悉北京北方华创微电子装备有限公司申请的专利半导体工艺设备及其清洗方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115945458B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-11发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211212745.5，技术领域涉及：B08B5/02；该发明授权半导体工艺设备及其清洗方法是由都娴;何忠义;郝亮;荣威设计研发完成，并于2022-09-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本半导体工艺设备及其清洗方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种半导体工艺设备及其清洗方法，该设备包括工艺腔室、用于向工艺腔室内通入气体的进气装置、用于抽出工艺腔室内气体的抽气装置，以及用于激发工艺腔室内气体形成等离子体的上电极装置，其特征在于，进气装置包括喷嘴、设置在喷嘴中的多个进气通道，以及气体分配组件，其中，不同的进气通道的出气方向不同；气体分配组件与多个进气通道连接，且用于与气体供应源连接，气体分配组件用于选择性地将气体供应源与至少一个进气通道连通，以能够在进行清洗工艺时，依次对各个进气通道和工艺腔室的内部进行清洗。本发明提供的半导体工艺设备及其清洗方法，可以有效提高对各个进气通道的清洁效果，降低刻蚀副产物掉落在晶圆上的风险。
本发明授权半导体工艺设备及其清洗方法在权利要求书中公布了：1.一种半导体工艺设备，包括工艺腔室、用于向所述工艺腔室内通入气体的进气装置、用于抽出所述工艺腔室内气体的抽气装置，以及用于激发所述工艺腔室内气体形成等离子体的上电极装置，其特征在于，所述进气装置还用于在进行半导体工艺过程中，对所述工艺腔室内通入工艺气体，所述进气装置包括喷嘴、设置在所述喷嘴中的多个进气通道，以及气体分配组件，其中，不同的所述进气通道的出气方向不同； 所述气体分配组件与多个所述进气通道连接，且用于与气体供应源连接，所述气体分配组件用于选择性地将所述气体供应源与其中部分所述进气通道连通，以能够在进行清洗工艺时，依次对各个所述进气通道进行清洗； 所述气体分配组件还用于在对所有所述进气通道进行吹扫之后，将所述气体供应源与多个所述进气通道连通，以能够在进行清洗工艺时，对所述工艺腔室的内部进行清洗。
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