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中国科学院半导体研究所刘艺源获国家专利权

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龙图腾网获悉中国科学院半导体研究所申请的专利水下大视场图像拼接方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN116205792B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-11发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202310222316.4,技术领域涉及:G06T3/4038;该发明授权水下大视场图像拼接方法是由刘艺源;王新伟;孙亮;周燕设计研发完成,并于2023-03-09向国家知识产权局提交的专利申请。

水下大视场图像拼接方法在说明书摘要公布了:本发明提出了一种水下大视场图像拼接方法,通过图像拼接整合多幅图像信息,生成大视场样带全景图,解决了水下光学探测中的小视场问题。基于结合光衰减模型的暗通道优先的算法对水下图像进行增强,提升水下图像质量和配准能力;并通过有效的局部配准算法完成高精度对齐和较大程度保形;最终利用有效的融合方法去除伪影,生成高质量全景图。本发明通过图像增强、图像配准、最佳缝合线分割和多分辨率区域融合,由水下小视场、高分辨率图像生成大视场、高分辨率全景图,具有适应性好、鲁棒性强、实用性强的特点。

本发明授权水下大视场图像拼接方法在权利要求书中公布了:1.一种水下大视场图像拼接方法,其特征在于,包括: 步骤S1,使用水下相机获取多个原始图像; 步骤S2,对所述水下相机进行预标定,获得多个标定参数,利用所述多个标定参数对所述原始图像进行去畸变处理,得到多个校正图像; 步骤S3,将暗通道优先图像增强算法和光衰减模型结合,对所述多个校正图像进行图 像增强,得到多个增强图像;其中,所述步骤S3具体包括:步骤S31,从每 个所述校正图像中提取R通道、G通道和B通道,在散射介质均匀的条件下,列出不同通道的 透射率公式,根据所述透射率公式,分别估算所述G通道和B通道的初始透射率;步骤S32,计 算所述G通道和B通道各自相对于所述R通道的衰减系数比,根据所述衰减系数比对所述G通 道和B通道的初始透射率进行联合优化,解出所述R通道的目标透射率;步骤S33,将所述R通 道的目标透射率和所述衰减系数比代入所述透射率公式,反解出所述G通道和B通道的目标 透射率;步骤S34,根据所述R通道、G通道和B通道的目标透射率,使用所述光衰减模型分别 对所述R通道、G通道和B通道进行去衰减处理,得到R通道、G通道和B通道的增强图像;步骤 S35,将所述R通道、G通道和B通道的增强图像进行合并,得到所述增强图像; 步骤S4,从所述多个增强图像中依次选取第一增强图像和第二增强图像取作为 待配准图像对,使用尺度不变特征变换算法对所述待配准图像对进行特征点检测,对检测 到的特征点进行匹配,得到匹配点对; 步骤S5,对所述待配准图像对进行网格划分,使用所述匹配点对并基于每个网格的变换规则,对所述待配准图像对进行视角配准,得到两个配准图像; 步骤S6,将所述两个配准图像作为两个待拼接图像,在所述两个待拼接图像的重叠区域划分超像素,通过形态学膨胀所述超像素的边界,得到被所述超像素约束的缝合线搜索区域;设定像素能量项,在所述缝合线搜索区域内,根据所述像素能量项并使用动态规划算法进行能量传递,得到用于拼接所述两个待拼接图像的最佳缝合线; 步骤S7,根据所述最佳缝合线生成分割掩膜,确定所述最佳缝合线的融合邻域图像,将经过所述分割掩膜作用的所述两个待拼接图像和所述融合邻域图像进行融合,生成所述两个待拼接图像对应的拼接结果图像; 步骤S8,从所述多个增强图像中依次选取下一个增强图像并和所述拼接结果图像作 为新的待配准图像对,重复上述步骤S4~步骤S7,直到不存在未被选取的增强图像,最终,生 成所述多个原始图像的全景图像。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人中国科学院半导体研究所,其通讯地址为:100083 北京市海淀区清华东路甲35号;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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