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龙图腾网获悉上海工程技术大学申请的专利一种光电催化增强固结磨料抛光单晶碳化硅的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116214359B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-11发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211588250.2，技术领域涉及：B24B37/10；该发明授权一种光电催化增强固结磨料抛光单晶碳化硅的方法是由陈佳鹏;吴霖;彭亚男设计研发完成，并于2022-12-12向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种光电催化增强固结磨料抛光单晶碳化硅的方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种光电催化增强固结磨料抛光单晶碳化硅的方法，首先将金刚石颗粒、压电发光材料和光催化材料烧制成具有压电性、压光性和光催化性的聚合磨料，然后将聚合磨料与高分子基体混合后进行热压成型制成固结磨料抛光垫，最后以含有电解质的双氧水作为抛光液，采用制成的固结磨料抛光垫对单晶碳化硅进行固结磨料加工；压电发光材料和光催化材料均为半导体材料，压电发光材料在应力作用下发红蓝可见光，光催化材料能够吸收所述红蓝可见光。本发明的方法适用于单晶碳化硅固结磨料抛光，能够保证单晶碳化硅固结磨料抛光高效率的同时形成低损伤加工表面，具有生产效率高，加工稳定性好，损伤小、成品率高、成本低等特点。

本发明授权一种光电催化增强固结磨料抛光单晶碳化硅的方法在权利要求书中公布了：1.一种光电催化增强固结磨料抛光单晶碳化硅的方法，其特征在于：首先将金刚石颗粒、压电发光材料和光催化材料烧制成具有压电性、压光性和光催化性的聚合磨料，然后将聚合磨料与高分子基体混合后进行热压成型制成固结磨料抛光垫，最后以含有电解质的双氧水作为抛光液，采用制成的固结磨料抛光垫对单晶碳化硅进行固结磨料加工； 压电发光材料和光催化材料均为半导体材料，压电发光材料在应力作用下发可见光，光催化材料能够吸收所述可见光； 压电发光材料为镨掺杂铌酸钠、镨掺杂铌酸钠钾、锰铕镝掺杂硅酸镁、四硼酸铝钇或铕镝掺杂氧化铝锶，光催化材料为氮掺杂氧化锌、溴化氧铋或石墨烯氮化碳； 金刚石颗粒的粒度为0.5~10μm，其含量为金刚石颗粒、压电发光材料和光催化材料总质量的25~75%； 压电发光材料的粒度为0.1~2μm，光催化材料的粒度为0.1~2μm，压电发光材料和光催化材料的质量比为1:3~3:1； 经抛光后，单晶碳化硅的材料去除率MRR为1.2~3.0μmmin，单晶碳化硅表面粗糙度Sa由220~250nm降为2~7nm，加工后的单晶碳化硅亚表面损伤层厚度为1~3μm。

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