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龙图腾网获悉沈阳航空航天大学申请的专利一种抑制涡轮叶片尾缘气膜局部失效的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116220829B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-11发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310246961.X，技术领域涉及：F01D5/18；该发明授权一种抑制涡轮叶片尾缘气膜局部失效的方法是由李广超;何海超;孙诚;刘松;郭文;赵长宇;何洪斌;赵志奇;张魏设计研发完成，并于2023-03-15向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种抑制涡轮叶片尾缘气膜局部失效的方法在说明书摘要公布了：一种抑制涡轮叶片尾缘气膜局部失效的方法，具体为：在叶根后半段划分出气膜失效三角区，在区内增设非均匀阵列布置气膜孔；气膜失效三角区长度为距叶片尾缘点80％轴向弦长，高度为距叶根35％叶高；气膜孔横向间距根据叶片内部纵向气腔位置进行设定；气膜孔采用漏斗型渐缩孔结构分为渐缩段和平直段，渐缩段起始于13气膜孔长度处，将气膜孔进气口与出气口直径比值定义为渐缩比且范围为1.2～1.8；将气膜孔轴向与流线方向形成的夹角定义为方位角且范围为30°～60°；将前排气膜孔和后排气膜孔的出气口中心连线与流线方向形成的夹角定义为偏角，后排气膜孔按照避开前排气膜孔偏角在‑10°～‑15°方向范围进行布置，其中以指向叶根方向的角度为正。

本发明授权一种抑制涡轮叶片尾缘气膜局部失效的方法在权利要求书中公布了：1.一种抑制涡轮叶片尾缘气膜局部失效的方法，其特征在于具体为：在叶根后半段划分出因通道涡对气膜的卷吸作用而产生的气膜失效三角区，在气膜失效三角区内增设非均匀阵列布置气膜孔；非均匀阵列布置气膜孔采用漏斗型渐缩孔结构，分为渐缩段和平直段，渐缩段起始于13气膜孔长度处，将非均匀阵列布置气膜孔的进气口与出气口的直径比值定义为渐缩比，且渐缩比范围为1.2～1.8；将非均匀阵列布置气膜孔的轴向与流线方向形成的夹角定义为方位角α，且方位角α的范围为30°～60°；将前排非均匀阵列布置气膜孔和后排非均匀阵列布置气膜孔的出气口中心连线与流线方向形成的夹角定义为偏角β，后排非均匀阵列布置气膜孔按照避开前排非均匀阵列布置气膜孔偏角β在-10°～-15°方向范围进行布置，其中以指向叶根方向的角度为正； 当非均匀阵列布置气膜孔的数量为五个时，最左侧的气膜孔定义为①号气膜孔，中间侧顶部的气膜孔定义为②号气膜孔，中间侧底部的气膜孔定义为③号气膜孔，最右侧顶部的气膜孔定义为④号气膜孔，最右侧底部的气膜孔定义为⑤号气膜孔； 方案一：①号气膜孔的渐缩比为1.3，方位角α为50°；②号气膜孔的渐缩比为1.2，方位角α为45°，相对于①号气膜孔的偏角β为-20°；③号气膜孔的渐缩比为1.4，方位角α为52°，相对于①号气膜孔的偏角β为18°；④号气膜孔的渐缩比为1.2，方位角α为41°，相对于②号气膜孔的偏角β为7°；⑤号气膜孔的渐缩比为1.4，方位角α为55°，相对于③号气膜孔的偏角β为8°； 方案二：①号气膜孔的渐缩比为1.3，方位角α为52°；②号气膜孔的渐缩比为1.2，方位角α为42°，相对于①号气膜孔的偏角β为-23°；③号气膜孔的渐缩比为1.4，方位角α为52°，相对于①号气膜孔的偏角β为18°；④号气膜孔的渐缩比为1.2，方位角α为41°，相对于②号气膜孔的偏角β为2°；⑤号气膜孔的渐缩比为1.4，方位角α为54°，相对于③号气膜孔的偏角β为3°； 方案三：①号气膜孔的渐缩比为1.3，方位角α为45°；②号气膜孔的渐缩比为1.2，方位角α为41°，相对于①号气膜孔的偏角β为-20°；③号气膜孔的渐缩比为1.4，方位角α为50°，相对于①号气膜孔的偏角β为18°；④号气膜孔的渐缩比为1.2，方位角α为38°，相对于②号气膜孔的偏角β为-7°；⑤号气膜孔的渐缩比为1.4，方位角α为48°，相对于③号气膜孔的偏角β为-8°。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人沈阳航空航天大学，其通讯地址为：110136 辽宁省沈阳市道义经济开发区道义南大街37号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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