东丽株式会社高桥健太获国家专利权
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龙图腾网获悉东丽株式会社申请的专利聚芳硫醚膜获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116325354B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-11发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180065558.6，技术领域涉及：C08J5/18；该发明授权聚芳硫醚膜是由高桥健太;浜崎莉沙;前川茂俊设计研发完成，并于2021-09-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本聚芳硫醚膜在说明书摘要公布了：本发明提供透明性和色调优异的聚芳硫醚膜。本发明的聚芳硫醚膜以聚芳硫醚PAS类树脂为主要构成成分，波长550nm的分光光线透射率Ta为75％以上，b值为5.0以下。
本发明授权聚芳硫醚膜在权利要求书中公布了：1.一种聚芳硫醚膜，其以聚芳硫醚PAS类树脂为主要构成成分，波长550nm的分光光线透射率Ta为75％以上，b值为3.0以下， 至少一个膜表面的表面粗糙度Ra为10nm以上且200nm以下， 所述聚芳硫醚膜的波长400nm的分光光线透射率Tb与波长600nm的分光光线透射率Tc满足下述式i： Tc-Tb≤8.2％式i， 至少一个膜表面的自基准面起的深度体积Vv和突起个数n满足下述式iii： 0.01≤Vv≤3.0式iii。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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