聚酰亚胺先端材料有限公司白承烈获国家专利权
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龙图腾网获悉聚酰亚胺先端材料有限公司申请的专利尺寸稳定性得到改善的低介电聚酰亚胺膜及其制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116419938B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-11发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180076725.7，技术领域涉及：C08G73/10；该发明授权尺寸稳定性得到改善的低介电聚酰亚胺膜及其制造方法是由白承烈;赵珉相;李吉男设计研发完成，并于2021-11-15向国家知识产权局提交的专利申请。
本尺寸稳定性得到改善的低介电聚酰亚胺膜及其制造方法在说明书摘要公布了：本发明提供尺寸稳定性和耐热性优异的低介电聚酰亚胺膜，其包含含有第一嵌段和第二嵌段的嵌段共聚物，上述第一嵌段是通过使包含联苯四甲酸二酐BPDA的酸二酐成分与包含对苯二胺PPD的二胺成分进行酰亚胺化反应而获得，上述第二嵌段是通过使包含二苯甲酮四甲酸二酐BTDA和均苯四甲酸二酐PMDA的酸二酐成分与包含间联甲苯胺m‑tolidine的二胺成分进行酰亚胺化反应而获得。
本发明授权尺寸稳定性得到改善的低介电聚酰亚胺膜及其制造方法在权利要求书中公布了：1.一种聚酰亚胺膜，其包含含有第一嵌段和第二嵌段的嵌段共聚物， 所述第一嵌段是通过使包含联苯四甲酸二酐BPDA的酸二酐成分与包含对苯二胺PPD的二胺成分进行酰亚胺化反应而获得， 所述第二嵌段是通过使包含二苯甲酮四甲酸二酐BTDA和均苯四甲酸二酐PMDA的酸二酐成分与包含间联甲苯胺的二胺成分进行酰亚胺化反应而获得， 以所述第一嵌段和所述第二嵌段的酸二酐成分的总含量100摩尔％为基准，二苯甲酮四甲酸二酐的含量为20摩尔％以上55摩尔％以下，联苯四甲酸二酐的含量为25摩尔％以上55摩尔％以下，均苯四甲酸二酐的含量为15摩尔％以上30摩尔％以下，以及 以所述第一嵌段和所述第二嵌段的二胺成分的总含量100摩尔％为基准，间联甲苯胺的含量为20摩尔％以上40摩尔％以下，对苯二胺的含量为60摩尔％以上80摩尔％以下。
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