中国科学院微电子研究所陈加旺获国家专利权
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龙图腾网获悉中国科学院微电子研究所申请的专利一种刻蚀辅助剂及其制备方法和应用方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116536050B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-11发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310301123.8，技术领域涉及：C09K13/02；该发明授权一种刻蚀辅助剂及其制备方法和应用方法是由陈加旺;贾锐;李星;李明辉;高志博设计研发完成，并于2023-03-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种刻蚀辅助剂及其制备方法和应用方法在说明书摘要公布了：本发明公开一种刻蚀辅助剂及其制备方法和应用方法，涉及感光化学技术领域。所述刻蚀辅助剂包括以组分：0.1‑2.0wt％亚甲基双萘磺酸钠、0.1‑2.0wt％绒面催化剂、0.005‑0.05wt％脱泡剂、0.001‑0.05wt％外观修饰剂、0.1‑2.0wt％反应调节剂，余量为去离子水。本发明中的刻蚀辅助剂以亚甲基双萘磺酸钠为主要成分，配合使用绒面催化剂、脱泡剂、外观修饰剂和反应调节剂，在进行单晶硅表面刻蚀的过程中保证反应持续、稳定、均匀进行，最终得到的单晶硅表面形成了底座边长在3‑5um的金字塔结构形貌，可以实现异质结结构的高质量界面钝化，对于推动异质结太阳能电池产业化具有重要意义。
本发明授权一种刻蚀辅助剂及其制备方法和应用方法在权利要求书中公布了：1.一种刻蚀辅助剂，其特征在于，以质量百分比计，包括以下组分： 0.1-2.0wt％亚甲基双萘磺酸钠、0.1-2.0wt％绒面催化剂、0.005-0.05wt％脱泡剂、0.001-0.05wt％外观修饰剂、0.1-2.0wt％反应调节剂，余量为去离子水； 其中，所述反应调节剂为无机钠盐和或有机钠盐；所述无机钠盐包括碳酸钠和或硅酸钠；所述有机钠盐包括三聚磷酸钠，柠檬酸钠，乳酸钠和酒石酸钠中的一种或两种； 所述绒面催化剂为聚环氧琥珀酸、烷基糖苷、十二烷基硫酸钠或十二烷基苯磺酸钠中的一种； 所述外观修饰剂为高聚醇类物质或低聚醇醚类物质。
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